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四平二氧化硅光學鍍膜材料制造商哪家好

待功率達到6700W時，恒溫45min，再降到6400W恒溫45min。此時真空度一般達到10-5乇，然后以4mm/h的速度下降坩堝，進行生長。坩堝停降后，以150W/15min的速率降溫，直至室溫，然后取出氟化鎂晶體。

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氟化鎂晶體在生長過程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨坩堝并抽真空，真空度應達到10^(-4)Pa以上，按程序進行升溫并保溫使原料充分熔化。采用電阻加熱提拉法生長出光學均勻性和質(zhì)量一致性好的氟化鈣單晶。

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氟化鋇晶體(BaF2)具有良好的光學透過性能，在0.15μm-14.5μm的光譜范圍內(nèi)，可以用作紫外和紅外光學窗口。同時，又具有優(yōu)良的閃爍性能，它在鎘銻鋅分析中的作用比錮鉍鉛中明顯，成為高能物理與核物理、核醫(yī)學等領域中重要的晶體材料。

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氟化鋁的操作注意事項為：密閉操作，局部排風。操作人員必須經(jīng)過專門培訓，嚴格遵守操作規(guī)程。建議操作人員佩戴自吸過濾式防塵口罩，戴化學安全防護眼鏡，穿透氣型防毒服，戴乳膠手套。避免產(chǎn)品粉塵。避免與酸類接觸。