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大連二氧化硅光學(xué)鍍膜材料市場(chǎng)報(bào)價(jià)

由于各領(lǐng)域?qū)ΨV的品質(zhì)要求不一，其制備的方法也各不相同。工業(yè)上生產(chǎn)氟化鎂的原料主要來(lái)自菱鎂礦和鹽湖鹵水，適用于大規(guī)模的工業(yè)生產(chǎn)，而高品質(zhì)氟化鎂的實(shí)驗(yàn)室制備方法生產(chǎn)原料則來(lái)自成品鎂鹽。

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目前，氟化鎂的制備研究方向主要有以下幾個(gè)方面：首先，在保證氟化鎂一定純度的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步改進(jìn)生產(chǎn)工藝，降低生產(chǎn)成本；其次，注重氟化鎂成品顆粒要具有更好的分散性、更均勻的粒徑分布，以保證良好的光學(xué)性能；另外，一些新領(lǐng)域如氟化鎂納米抗生膜、氟化鎂納米管等也逐漸被開發(fā)利用。

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單晶原子以均勻有序的長(zhǎng)距離有序排列，表現(xiàn)出優(yōu)選的取向。因?yàn)闆]有晶界，相鄰的顆粒(或氟化物)。從國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)和生產(chǎn)過程來(lái)看，有競(jìng)爭(zhēng)力的市場(chǎng)是干燥的氟化鋁生產(chǎn)過程及其產(chǎn)品。在迄今為止已知的材料中，氟化鎂晶體是在真空紫外線帶中具有透光性能的材料之一。

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二氧化硅，分子式：SiO2 介紹二氧化硅是一種無(wú)色透明狀鍍膜材料，折射率穩(wěn)定，是一種低折射率材料，二氧化硅具有從紫外到到紅外的寬譜段高透性，具有良好的物理和化學(xué)穩(wěn)定性，在20世紀(jì)初，通過物理氣相沉積技術(shù)制作成二氧化硅薄膜，已被廣泛應(yīng)用于光學(xué)和光電子領(lǐng)域的基本材料。

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氟化鎂晶體在生長(zhǎng)過程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨坩堝并抽真空，真空度應(yīng)達(dá)到10^(-4)Pa以上，按程序進(jìn)行升溫并保溫使原料充分熔化。采用電阻加熱提拉法生長(zhǎng)出光學(xué)均勻性和質(zhì)量一致性好的氟化鈣單晶。

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SiO2又稱硅石。在自然界分布很廣，如石英、石英砂等。白色或無(wú)色，含鐵量較高的是淡黃色。密度2.2 ～2.66.熔點(diǎn)1670℃（鱗石英）；1710℃（方石英）。沸點(diǎn)2230℃，相對(duì)介電常數(shù)為3.9。不溶于水微溶于酸，呈顆粒狀態(tài)時(shí)能和熔融堿類起作用。用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、硅鐵、型砂、單質(zhì)硅等。