金山二氧化硅光學(xué)鍍膜材料制造商哪家好
發(fā)布時(shí)間:2024-08-29 01:11:58
金山二氧化硅光學(xué)鍍膜材料制造商哪家好
將高純的氟化鈣顆粒料置于石墨坩堝內(nèi),抽真空度至10^-4Pa,通入一定量的高純CF4氣體,加熱使其熔化,恒溫一段時(shí)間,然后以較快速率降溫,將結(jié)晶的晶塊去除,去除表面雜質(zhì),然后將塊狀晶料用于晶體生長(zhǎng)。氟化鎂晶體生長(zhǎng)工藝對(duì)晶體質(zhì)量有重大影響,通過(guò)工藝(拉速、轉(zhuǎn)速)優(yōu)化

金山二氧化硅光學(xué)鍍膜材料制造商哪家好
3、升華法:將一份氯化銨與2.3份氟化鈉的混合物放在鉑皿中,鉑皿中蓋以凹形蓋,蓋上放冷水冷卻,微熱鉑皿,升華出來(lái)的氟化銨凝結(jié)在皿蓋上,可得棱形小結(jié)晶。

金山二氧化硅光學(xué)鍍膜材料制造商哪家好
氟化鎂的蒸汽壓較高,原料在提拉法生長(zhǎng)的敝開(kāi)體系中易揮發(fā),因此晶體生長(zhǎng)過(guò)程需在正壓條件下進(jìn)行。首先將晶體生長(zhǎng)爐內(nèi)抽至真空,然后充入高純氬氣至微正壓,待氣體均勻后將氬氣抽出,從而將爐內(nèi)的水分和氧氣等雜質(zhì)排除。該過(guò)程重復(fù)進(jìn)行,直到晶體爐內(nèi)達(dá)到真空狀態(tài),開(kāi)始升溫至氟化鎂燒結(jié)料熔化。

金山二氧化硅光學(xué)鍍膜材料制造商哪家好
氟化鎂是一種應(yīng)用很廣泛的晶體,具有如下特性:1、抗撞擊和熱波動(dòng)以及輻照。2、可用于光學(xué)棱透鏡、鍥角片、窗口和相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)中。3、四方雙折射晶體性能,可用于光通訊。4、良好的化學(xué)穩(wěn)定性。5、在針孔紫外到紅外(0.11-8.5μm)波段有很高的透過(guò)率。