密云二氧化硅光學(xué)鍍膜材料哪個(gè)品牌好
發(fā)布時(shí)間：2024-09-08 01:10:45
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氟化物是當(dāng)今重要污染物,現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)過程排放了大量氟污染物．由于其巨大危害性,氟污染和回收利用問題受到人們?cè)絹碓蕉嚓P(guān)注．本文主要對(duì)氟化物危害,我國(guó)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)對(duì)氟化物要求,氟化物來源以及氟化物遷移轉(zhuǎn)化過程等進(jìn)行了簡(jiǎn)要介紹,同時(shí)介紹了電解鋁廠中產(chǎn)生氟化物污染控制技術(shù)．
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氟化鋇受到高熱分解時(shí)釋放出的有毒煙氣對(duì)人體的危害這么大，我們應(yīng)該如何進(jìn)行防護(hù)，來保護(hù)好自己呢？1.呼吸系統(tǒng)防護(hù)：在接觸這些有毒的煙氣時(shí)，我們需要佩戴好防毒口罩，如果是在氟化鋇有毒煙氣的高濃度的環(huán)境下，建議大家佩戴防毒面具，大程度保護(hù)好自己。
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密閉操作、局部排風(fēng)，操作人員必須經(jīng)過專門培訓(xùn)，嚴(yán)格遵守操作規(guī)定。氟化鎂晶體在生長(zhǎng)過程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨。
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與氟化鎂多晶相比，單晶在紫外區(qū)域具有更高的透過率，此外單晶材料在物理性能上優(yōu)于多晶材料，具有很高的機(jī)械強(qiáng)度，以及抗熱沖擊強(qiáng)、不易沿晶界開裂等優(yōu)點(diǎn)。氟化鎂在高溫時(shí)易發(fā)生氧化或水解反應(yīng)，生成氧化鎂雜質(zhì)，氧化鎂熔點(diǎn)較高，不易揮發(fā)
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產(chǎn)品應(yīng)用-在鍍膜工藝中，二氧化硅常作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護(hù)層，鍍制保護(hù)膜。-二氧化硅也可用于光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環(huán)境中，通過膜系設(shè)計(jì)，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達(dá)到提升光纖的透過或高反的目的。
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氟化鎂晶體在生長(zhǎng)過程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨坩堝并抽真空，真空度應(yīng)達(dá)到10^(-4)Pa以上，按程序進(jìn)行升溫并保溫使原料充分熔化。采用電阻加熱提拉法生長(zhǎng)出光學(xué)均勻性和質(zhì)量一致性好的氟化鈣單晶。