大連氟化鈣光學(xué)鍍膜材料產(chǎn)地貨源公司
發(fā)布時(shí)間：2024-09-11 01:11:28
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在鋁的生產(chǎn)中氟化鋁作電解浴組分，用以降低熔點(diǎn)和提高電解質(zhì)的電導(dǎo)率。用于生產(chǎn)酒精時(shí)作發(fā)酵的抑制劑。用作陶瓷外層釉彩和搪瓷釉的助溶劑、非鐵金屬的溶劑。在金屬焊接中用于焊接液。用于制造光學(xué)透鏡。還用作有機(jī)合成的催化劑機(jī)人造冰晶石的原料等。
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氟化鋇一般有兩種形態(tài)，一種是無(wú)色透明的立方結(jié)晶體，還有一種是白色粉末狀。能夠溶于鹽酸、硝酸以及乙醇等有機(jī)溶劑，微溶于水。熔點(diǎn)為1368℃，沸點(diǎn)為2260℃。今天咱們就來(lái)說(shuō)說(shuō)氟化鋇進(jìn)行儲(chǔ)存的方法都有哪些。
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迄今為止所知材料中，氟化鎂晶體是真空紫外波段透光性能好的材料之一。氟化鎂晶體從真空紫外到紅外段都有著良好的透過(guò)性，是一種常用的紅外、紫外探測(cè)器窗口材料。隨著大功率激光技術(shù)、高精度成像技術(shù)、紅外制導(dǎo)技術(shù)以及半導(dǎo)體光刻技術(shù)的迅猛發(fā)展，市場(chǎng)對(duì)氟化鎂的需求與日劇增，特別是高質(zhì)量單晶體在可以預(yù)見(jiàn)的一段時(shí)間內(nèi)都處于供不應(yīng)求的狀態(tài)。
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氟化鎂晶體在生長(zhǎng)過(guò)程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨坩堝并抽真空，真空度應(yīng)達(dá)到10^(-4)Pa以上，按程序進(jìn)行升溫并保溫使原料充分熔化。采用電阻加熱提拉法生長(zhǎng)出光學(xué)均勻性和質(zhì)量一致性好的氟化鈣單晶。
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待功率達(dá)到6700W時(shí)，恒溫45min，再降到6400W恒溫45min。此時(shí)真空度一般達(dá)到10-5乇，然后以4mm/h的速度下降坩堝，進(jìn)行生長(zhǎng)。坩堝停降后，以150W/15min的速率降溫，直至室溫，然后取出氟化鎂晶體。
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高純氟化鋁具有許多優(yōu)良的性能，應(yīng)用廣泛。它比原鋁具有更好的導(dǎo)電性、延展性、反射率和耐腐蝕性，在電子工業(yè)和航空航天領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。在電子工業(yè)中，用于制造高壓電容器鋁箔、高性能線、集成電路鍵合線;在航空航天工業(yè)中