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房山氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家供應(yīng)

發(fā)布時間:2024-09-26 01:09:42
房山氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家供應(yīng)

房山氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家供應(yīng)

目前,氟化鎂的制備研究方向主要有以下幾個方面:首先,在保證氟化鎂一定純度的基礎(chǔ)上,進(jìn)一步改進(jìn)生產(chǎn)工藝,降低生產(chǎn)成本;其次,注重氟化鎂成品顆粒要具有更好的分散性、更均勻的粒徑分布,以保證良好的光學(xué)性能;另外,一些新領(lǐng)域如氟化鎂納米抗生膜、氟化鎂納米管等也逐漸被開發(fā)利用。

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SiO2又稱硅石。在自然界分布很廣,如石英、石英砂等。白色或無色,含鐵量較高的是淡黃色。密度2.2 ~2.66.熔點(diǎn)1670℃(鱗石英);1710℃(方石英)。沸點(diǎn)2230℃,相對介電常數(shù)為3.9。不溶于水微溶于酸,呈顆粒狀態(tài)時能和熔融堿類起作用。用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、硅鐵、型砂、單質(zhì)硅等。

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產(chǎn)品應(yīng)用-在鍍膜工藝中,二氧化硅常作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護(hù)層,鍍制保護(hù)膜。-二氧化硅也可用于光纖端頭的鍍膜使用,在高真空環(huán)境中,通過膜系設(shè)計,與高折射材料例Ta2O5,相互配合鍍膜于光纖端頭,從而達(dá)到提升光纖的透過或高反的目的。

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氟化鎂晶體被應(yīng)用在光學(xué)系統(tǒng)中,它的透過波段為0.11μm-8.5μm。輻照不會導(dǎo)致色心的產(chǎn)生,它有良好的機(jī)械性能,可以承受熱和機(jī)械震動,很大的外力才能使氟化鎂解理。氟化鎂單晶由于有微弱的雙折射性能,通常的切向?yàn)楣廨S垂直于晶片表面。

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密閉操作、局部排風(fēng),操作人員必須經(jīng)過專門培訓(xùn),嚴(yán)格遵守操作規(guī)定。氟化鎂晶體在生長過程中加入一定量的除氧劑,以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨。