新民氟化鎂光學(xué)鍍膜材料產(chǎn)地貨源公司
發(fā)布時間：2024-10-21 01:06:42
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二氧化硅，分子式：SiO2 介紹二氧化硅是一種無色透明狀鍍膜材料，折射率穩(wěn)定，是一種低折射率材料，二氧化硅具有從紫外到到紅外的寬譜段高透性，具有良好的物理和化學(xué)穩(wěn)定性，在20世紀(jì)初，通過物理氣相沉積技術(shù)制作成二氧化硅薄膜，已被廣泛應(yīng)用于光學(xué)和光電子領(lǐng)域的基本材料。
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氟化鎂擁有較低的折射率低，能夠與高折射率材料組成較寬帶隙，可用作作光子晶體中的低折射率材料。如MgF2/Ag一維光子晶體可以通過改變薄膜厚度及膜層周期數(shù)進(jìn)而有效調(diào)節(jié)其通頻帶的位置和中心頻率，可廣泛應(yīng)用于傳感器、護(hù)目鏡、熱反射窗、發(fā)光二極管以及液晶顯示屏的透明電極等領(lǐng)域。
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由于各領(lǐng)域?qū)ΨV的品質(zhì)要求不一，其制備的方法也各不相同。工業(yè)上生產(chǎn)氟化鎂的原料主要來自菱鎂礦和鹽湖鹵水，適用于大規(guī)模的工業(yè)生產(chǎn)，而高品質(zhì)氟化鎂的實(shí)驗(yàn)室制備方法生產(chǎn)原料則來自成品鎂鹽。
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②氨氣氨化制備氟化銨：以氟硅酸或氟硅酸銨和水為原料，將氨水和氟硅酸快速反應(yīng)制得白炭黑晶種，將水、氟硅酸與氨水加入進(jìn)行反應(yīng)，通過控制反應(yīng) pH、 溫度制得白炭黑和氟化銨，再經(jīng)過一系列后續(xù)處理得到產(chǎn)品白炭黑和氟化銨。2、氣相法：取75g 40%氫氟酸放在鉑皿中或聚四氟乙烯容器中，用冰冷卻，然后緩緩地通入過量的氨氣。析出的NH4F用吸濾方法濾出。
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氧化鎂的熔點(diǎn)高，不易揮發(fā)。殘留在生長系統(tǒng)中的氧化鎂將減少晶體過濾，并導(dǎo)致缺陷，例如晶體內(nèi)部的散射顆粒。因此，在整個晶體生長過程中必須避免氧氣和水蒸氣。有必要在氟化鎂原料中加入質(zhì)量百分比的除氧劑，不僅可以有效去除原料和結(jié)晶爐中的水分，還可以對原料進(jìn)行進(jìn)一步的氟化處理，避免水解或氧化。氟化鎂晶體材料