莊河氟化鎂光學(xué)鍍膜材料產(chǎn)地貨源公司
發(fā)布時(shí)間：2024-11-17 01:06:24
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氟化鎂晶體在生長過程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨坩堝并抽真空，真空度應(yīng)達(dá)到10^(-4)Pa以上，按程序進(jìn)行升溫并保溫使原料充分熔化。采用電阻加熱提拉法生長出光學(xué)均勻性和質(zhì)量一致性好的氟化鈣單晶。
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高純氟化鋁具有許多優(yōu)良的性能，應(yīng)用廣泛。它比原鋁具有更好的導(dǎo)電性、延展性、反射率和耐腐蝕性，在電子工業(yè)和航空航天領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。在電子工業(yè)中，用于制造高壓電容器鋁箔、高性能線、集成電路鍵合線;在航空航天工業(yè)中
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產(chǎn)品應(yīng)用-在鍍膜工藝中，二氧化硅常作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護(hù)層，鍍制保護(hù)膜。-二氧化硅也可用于光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環(huán)境中，通過膜系設(shè)計(jì)，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達(dá)到提升光纖的透過或高反的目的。
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將高純的氟化鈣顆粒料置于石墨坩堝內(nèi)，抽真空度至10^-4Pa，通入一定量的高純CF4氣體，加熱使其熔化，恒溫一段時(shí)間，然后以較快速率降溫，將結(jié)晶的晶塊去除，去除表面雜質(zhì)，然后將塊狀晶料用于晶體生長。氟化鎂晶體生長工藝對晶體質(zhì)量有重大影響，通過工藝（拉速、轉(zhuǎn)速）優(yōu)化