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普蘭店二氧化硅光學(xué)鍍膜材料市場報價

由于各領(lǐng)域?qū)ΨV的品質(zhì)要求不一，其制備的方法也各不相同。工業(yè)上生產(chǎn)氟化鎂的原料主要來自菱鎂礦和鹽湖鹵水，適用于大規(guī)模的工業(yè)生產(chǎn)，而高品質(zhì)氟化鎂的實驗室制備方法生產(chǎn)原料則來自成品鎂鹽。

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SiO2又稱硅石。在自然界分布很廣，如石英、石英砂等。白色或無色，含鐵量較高的是淡黃色。密度2.2 ～2.66.熔點1670℃（鱗石英）；1710℃（方石英）。沸點2230℃，相對介電常數(shù)為3.9。不溶于水微溶于酸，呈顆粒狀態(tài)時能和熔融堿類起作用。用于制玻璃、水玻璃、陶器、搪瓷、耐火材料、硅鐵、型砂、單質(zhì)硅等。

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高純氟化鋁被用于開發(fā)等離子體帆(推動航天器的新動力);在高速軌道交通中，高速軌道交通車輛不僅需要高純氟化鋁來制作高性能合金，而且由于高純氟化鋁的磁導(dǎo)率低、比重輕等特點，在磁懸浮材料中得到了廣泛的應(yīng)用。

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氟化鎂晶體被應(yīng)用在光學(xué)系統(tǒng)中，它的透過波段為0.11μm-8.5μm。輻照不會導(dǎo)致色心的產(chǎn)生，它有良好的機械性能，可以承受熱和機械震動，很大的外力才能使氟化鎂解理。氟化鎂單晶由于有微弱的雙折射性能，通常的切向為光軸垂直于晶片表面。

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殘留在生長體系中的氧化鎂會導(dǎo)致晶體過濾降低，并造成晶體內(nèi)部產(chǎn)生散射顆粒等缺陷，因此在整個晶體生長過程中必須避免氧氣及水汽存在。在氟化鎂原料中需要加入一定質(zhì)量百分比的除氧劑，這樣不僅能有效除去原料和晶體爐內(nèi)的水分，還可以進一步氟化原料，避免氟化鎂晶料水解或氧化。

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待功率達到6700W時，恒溫45min，再降到6400W恒溫45min。此時真空度一般達到10-5乇，然后以4mm/h的速度下降坩堝，進行生長。坩堝停降后，以150W/15min的速率降溫，直至室溫，然后取出氟化鎂晶體。