青浦氟化鎂光學(xué)鍍膜材料生產(chǎn)廠家
發(fā)布時(shí)間：2024-12-15 01:01:16
青浦氟化鎂光學(xué)鍍膜材料生產(chǎn)廠家
類型分類目前市面上二氧化硅主要是按照形狀不同分為：二氧化硅晶體顆粒，二氧化硅晶體柱狀顆粒和二氧化硅晶體切片規(guī)格介紹- 二氧化硅晶體顆粒常規(guī)尺寸為： 1-3mm，3-5mm- 二氧化硅晶體柱狀顆粒常規(guī)尺寸為：2*4mm-二氧化硅晶體切片常規(guī)尺寸為：20*10mm二氧化硅純度一般為99.9%和99.99%
青浦氟化鎂光學(xué)鍍膜材料生產(chǎn)廠家
氟化鋇晶體(BaF2)具有良好的光學(xué)透過性能，在0.15μm-14.5μm的光譜范圍內(nèi)，可以用作紫外和紅外光學(xué)窗口。同時(shí)，又具有優(yōu)良的閃爍性能，它在鎘銻鋅分析中的作用比錮鉍鉛中明顯，成為高能物理與核物理、核醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域中重要的晶體材料。
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氟化鎂的蒸氣壓較高，并且在通過切克勞斯基方法生長的開放系統(tǒng)中原料易揮發(fā)，因此晶體生長過程需要在正壓條件下進(jìn)行。首先，將晶體生長爐抽真空至真空，然后用高純度氬氣填充至略微正壓。氣體均勻后，將氬氣抽出以除去爐中的雜質(zhì)，例如水分和氧氣。重復(fù)該過程直到達(dá)到晶體爐中的真空狀態(tài)，并且將溫度升高至氟化鎂燒結(jié)材料的熔化。
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氟化鎂是一種應(yīng)用很廣泛的晶體，具有如下特性：1、抗撞擊和熱波動以及輻照。2、可用于光學(xué)棱透鏡、鍥角片、窗口和相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)中。3、四方雙折射晶體性能，可用于光通訊。4、良好的化學(xué)穩(wěn)定性。5、在針孔紫外到紅外（0.11-8.5μm）波段有很高的透過率。