北鎮(zhèn)氟化鈣光學(xué)鍍膜材料哪個(gè)品牌好
發(fā)布時(shí)間：2025-01-06 01:00:33
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將氟化鎂粉料與高純PbF2粉料均勻混合，裝入鉗堝，把鉗堝放在坩堝座上，裝好加熱體，調(diào)整坩堝底部，使其位于高溫區(qū)，再裝好保溫罩，封好爐子抽真空。待真空度達(dá)到10-4乇時(shí)，以500w功率加熱，烘料1.5-2h，然后以1000W/15min速率緩慢升溫。
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氧化鎂的熔點(diǎn)高，不易揮發(fā)。殘留在生長(zhǎng)系統(tǒng)中的氧化鎂將減少晶體過(guò)濾，并導(dǎo)致缺陷，例如晶體內(nèi)部的散射顆粒。因此，在整個(gè)晶體生長(zhǎng)過(guò)程中必須避免氧氣和水蒸氣。有必要在氟化鎂原料中加入質(zhì)量百分比的除氧劑，不僅可以有效去除原料和結(jié)晶爐中的水分，還可以對(duì)原料進(jìn)行進(jìn)一步的氟化處理，避免水解或氧化。氟化鎂晶體材料
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與多晶氟化鎂相比，單晶在紫外區(qū)域具有更高的透射率。另外，單晶材料在物理性能上優(yōu)于多晶材料，具有高機(jī)械強(qiáng)度，并且抗熱沖擊并且不容易沿晶界開(kāi)裂的優(yōu)點(diǎn)。氟化鎂在高溫下易于氧化或水解反應(yīng)以產(chǎn)生氧化鎂雜質(zhì)。
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產(chǎn)品應(yīng)用-在鍍膜工藝中，二氧化硅常作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護(hù)層，鍍制保護(hù)膜。-二氧化硅也可用于光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環(huán)境中，通過(guò)膜系設(shè)計(jì)，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達(dá)到提升光纖的透過(guò)或高反的目的。
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高純氟化鋁具有許多優(yōu)良的性能，應(yīng)用廣泛。它比原鋁具有更好的導(dǎo)電性、延展性、反射率和耐腐蝕性，在電子工業(yè)和航空航天領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。在電子工業(yè)中，用于制造高壓電容器鋁箔、高性能線、集成電路鍵合線;在航空航天工業(yè)中
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將高純的氟化鈣顆粒料置于石墨坩堝內(nèi)，抽真空度至10^-4Pa，通入一定量的高純CF4氣體，加熱使其熔化，恒溫一段時(shí)間，然后以較快速率降溫，將結(jié)晶的晶塊去除，去除表面雜質(zhì)，然后將塊狀晶料用于晶體生長(zhǎng)。氟化鎂晶體生長(zhǎng)工藝對(duì)晶體質(zhì)量有重大影響，通過(guò)工藝（拉速、轉(zhuǎn)速）優(yōu)化