奉賢二氧化硅光學(xué)鍍膜材料制造商哪家好
發(fā)布時(shí)間：2025-01-22 01:01:00
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密閉操作、局部排風(fēng)，操作人員必須經(jīng)過專門培訓(xùn)，嚴(yán)格遵守操作規(guī)定。氟化鎂晶體在生長過程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨。
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迄今為止所知材料中，氟化鎂晶體是真空紫外波段透光性能好的材料之一。氟化鎂晶體從真空紫外到紅外段都有著良好的透過性，是一種常用的紅外、紫外探測器窗口材料。隨著大功率激光技術(shù)、高精度成像技術(shù)、紅外制導(dǎo)技術(shù)以及半導(dǎo)體光刻技術(shù)的迅猛發(fā)展，市場對(duì)氟化鎂的需求與日劇增，特別是高質(zhì)量單晶體在可以預(yù)見的一段時(shí)間內(nèi)都處于供不應(yīng)求的狀態(tài)。
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氟化鎂是一種應(yīng)用很廣泛的晶體，具有如下特性：1、抗撞擊和熱波動(dòng)以及輻照。2、可用于光學(xué)棱透鏡、鍥角片、窗口和相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)中。3、四方雙折射晶體性能，可用于光通訊。4、良好的化學(xué)穩(wěn)定性。5、在針孔紫外到紅外（0.11-8.5μm）波段有很高的透過率。
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氧化鎂的熔點(diǎn)高，不易揮發(fā)。殘留在生長系統(tǒng)中的氧化鎂將減少晶體過濾，并導(dǎo)致缺陷，例如晶體內(nèi)部的散射顆粒。因此，在整個(gè)晶體生長過程中必須避免氧氣和水蒸氣。有必要在氟化鎂原料中加入質(zhì)量百分比的除氧劑，不僅可以有效去除原料和結(jié)晶爐中的水分，還可以對(duì)原料進(jìn)行進(jìn)一步的氟化處理，避免水解或氧化。氟化鎂晶體材料
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產(chǎn)品應(yīng)用-在鍍膜工藝中，二氧化硅常作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護(hù)層，鍍制保護(hù)膜。-二氧化硅也可用于光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環(huán)境中，通過膜系設(shè)計(jì)，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達(dá)到提升光纖的透過或高反的目的。