密云二氧化硅光學(xué)鍍膜材料市場報價
發(fā)布時間：2025-02-01 01:00:30
密云二氧化硅光學(xué)鍍膜材料市場報價
氟化鎂的蒸汽壓較高，原料在提拉法生長的敝開體系中易揮發(fā)，因此晶體生長過程需在正壓條件下進行。首先將晶體生長爐內(nèi)抽至真空，然后充入高純氬氣至微正壓，待氣體均勻后將氬氣抽出，從而將爐內(nèi)的水分和氧氣等雜質(zhì)排除。該過程重復(fù)進行，直到晶體爐內(nèi)達到真空狀態(tài)，開始升溫至氟化鎂燒結(jié)料熔化。
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與多晶氟化鎂相比，單晶在紫外區(qū)域具有更高的透射率。另外，單晶材料在物理性能上優(yōu)于多晶材料，具有高機械強度，并且抗熱沖擊并且不容易沿晶界開裂的優(yōu)點。氟化鎂在高溫下易于氧化或水解反應(yīng)以產(chǎn)生氧化鎂雜質(zhì)。
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殘留在生長體系中的氧化鎂會導(dǎo)致晶體過濾降低，并造成晶體內(nèi)部產(chǎn)生散射顆粒等缺陷，因此在整個晶體生長過程中必須避免氧氣及水汽存在。在氟化鎂原料中需要加入一定質(zhì)量百分比的除氧劑，這樣不僅能有效除去原料和晶體爐內(nèi)的水分，還可以進一步氟化原料，避免氟化鎂晶料水解或氧化。
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高純氟化鋁被用于開發(fā)等離子體帆(推動航天器的新動力);在高速軌道交通中，高速軌道交通車輛不僅需要高純氟化鋁來制作高性能合金，而且由于高純氟化鋁的磁導(dǎo)率低、比重輕等特點，在磁懸浮材料中得到了廣泛的應(yīng)用。