浦東新氟化鎂光學鍍膜材料生產廠家
發(fā)布時間：2025-02-17 00:59:42
浦東新氟化鎂光學鍍膜材料生產廠家
氟化鎂為無色晶體或粉末，是一種重要的無機化工原料。用作電解鋁的添加劑、冶煉金屬鎂的助熔劑、鈦顏料的涂著劑、陰極射線屏的熒光材料等。同時它也是一種無色透明的紅外光學材料，具有較寬的透過范圍和高的透過率，用作制作紅外光學系統(tǒng)中的光學棱鏡、透鏡和窗口元件。
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氟化鎂的蒸汽壓較高，原料在提拉法生長的敝開體系中易揮發(fā)，因此晶體生長過程需在正壓條件下進行。首先將晶體生長爐內抽至真空，然后充入高純氬氣至微正壓，待氣體均勻后將氬氣抽出，從而將爐內的水分和氧氣等雜質排除。該過程重復進行，直到晶體爐內達到真空狀態(tài)，開始升溫至氟化鎂燒結料熔化。
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二氧化硅，分子式：SiO2 介紹二氧化硅是一種無色透明狀鍍膜材料，折射率穩(wěn)定，是一種低折射率材料，二氧化硅具有從紫外到到紅外的寬譜段高透性，具有良好的物理和化學穩(wěn)定性，在20世紀初，通過物理氣相沉積技術制作成二氧化硅薄膜，已被廣泛應用于光學和光電子領域的基本材料。
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待功率達到6700W時，恒溫45min，再降到6400W恒溫45min。此時真空度一般達到10-5乇，然后以4mm/h的速度下降坩堝，進行生長。坩堝停降后，以150W/15min的速率降溫，直至室溫，然后取出氟化鎂晶體。
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氟化鎂的蒸氣壓較高，并且在通過切克勞斯基方法生長的開放系統(tǒng)中原料易揮發(fā)，因此晶體生長過程需要在正壓條件下進行。首先，將晶體生長爐抽真空至真空，然后用高純度氬氣填充至略微正壓。氣體均勻后，將氬氣抽出以除去爐中的雜質，例如水分和氧氣。重復該過程直到達到晶體爐中的真空狀態(tài)，并且將溫度升高至氟化鎂燒結材料的熔化。