九臺(tái)二氧化硅光學(xué)鍍膜材料哪個(gè)品牌好
發(fā)布時(shí)間：2025-02-23 00:59:30
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在高能物理實(shí)驗(yàn)中,對(duì)光子的探測占有相當(dāng)重要的地位.對(duì)光子的探測主要是通過測量它在物質(zhì)中產(chǎn)生的電磁簇射來實(shí)現(xiàn)的.隨著高能加速器能量的不斷提高,所研究的光子能量也越來越高,這就要求探測器所用的材料既要有高的阻止能力,又要有較好的時(shí)間分辨,能量分辨和抗輻照的能力.
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氟化鎂是一種應(yīng)用很廣泛的晶體，具有如下特性：1、抗撞擊和熱波動(dòng)以及輻照。2、可用于光學(xué)棱透鏡、鍥角片、窗口和相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)中。3、四方雙折射晶體性能，可用于光通訊。4、良好的化學(xué)穩(wěn)定性。5、在針孔紫外到紅外（0.11-8.5μm）波段有很高的透過率。
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密閉操作、局部排風(fēng)，操作人員必須經(jīng)過專門培訓(xùn)，嚴(yán)格遵守操作規(guī)定。氟化鎂晶體在生長過程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨。
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殘留在生長體系中的氧化鎂會(huì)導(dǎo)致晶體過濾降低，并造成晶體內(nèi)部產(chǎn)生散射顆粒等缺陷，因此在整個(gè)晶體生長過程中必須避免氧氣及水汽存在。在氟化鎂原料中需要加入一定質(zhì)量百分比的除氧劑，這樣不僅能有效除去原料和晶體爐內(nèi)的水分，還可以進(jìn)一步氟化原料，避免氟化鎂晶料水解或氧化。
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利用計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制晶體生產(chǎn)有效的解決了大直徑晶體的炸裂及生長界面不穩(wěn)定引起的包裹體、生長層、氣泡等缺陷。采用低拉速生長，生長結(jié)束后緩慢降溫在真空爐中進(jìn)行精密退火，獲得了優(yōu)質(zhì)的氟化鈣晶體。