閔行氟化鎂光學(xué)鍍膜材料哪個品牌好
發(fā)布時間：2025-03-01 00:59:28
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氟化鎂的蒸氣壓較高，并且在通過切克勞斯基方法生長的開放系統(tǒng)中原料易揮發(fā)，因此晶體生長過程需要在正壓條件下進(jìn)行。首先，將晶體生長爐抽真空至真空，然后用高純度氬氣填充至略微正壓。氣體均勻后，將氬氣抽出以除去爐中的雜質(zhì)，例如水分和氧氣。重復(fù)該過程直到達(dá)到晶體爐中的真空狀態(tài)，并且將溫度升高至氟化鎂燒結(jié)材料的熔化。
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在鋁的生產(chǎn)中氟化鋁作電解浴組分，用以降低熔點和提高電解質(zhì)的電導(dǎo)率。用于生產(chǎn)酒精時作發(fā)酵的抑制劑。用作陶瓷外層釉彩和搪瓷釉的助溶劑、非鐵金屬的溶劑。在金屬焊接中用于焊接液。用于制造光學(xué)透鏡。還用作有機合成的催化劑機人造冰晶石的原料等。
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產(chǎn)品應(yīng)用-在鍍膜工藝中，二氧化硅常作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護(hù)層，鍍制保護(hù)膜。-二氧化硅也可用于光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環(huán)境中，通過膜系設(shè)計，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達(dá)到提升光纖的透過或高反的目的。
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殘留在生長體系中的氧化鎂會導(dǎo)致晶體過濾降低，并造成晶體內(nèi)部產(chǎn)生散射顆粒等缺陷，因此在整個晶體生長過程中必須避免氧氣及水汽存在。在氟化鎂原料中需要加入一定質(zhì)量百分比的除氧劑，這樣不僅能有效除去原料和晶體爐內(nèi)的水分，還可以進(jìn)一步氟化原料，避免氟化鎂晶料水解或氧化。
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利用計算機自動控制晶體生產(chǎn)有效的解決了大直徑晶體的炸裂及生長界面不穩(wěn)定引起的包裹體、生長層、氣泡等缺陷。采用低拉速生長，生長結(jié)束后緩慢降溫在真空爐中進(jìn)行精密退火，獲得了優(yōu)質(zhì)的氟化鈣晶體。