營口氟化鎂光學鍍膜材料產(chǎn)地貨源公司
發(fā)布時間：2025-03-18 00:58:42
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氟化鎂為無色晶體或粉末，是一種重要的無機化工原料。用作電解鋁的添加劑、冶煉金屬鎂的助熔劑、鈦顏料的涂著劑、陰極射線屏的熒光材料等。同時它也是一種無色透明的紅外光學材料，具有較寬的透過范圍和高的透過率，用作制作紅外光學系統(tǒng)中的光學棱鏡、透鏡和窗口元件。
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氟化鎂擁有較低的折射率低，能夠與高折射率材料組成較寬帶隙，可用作作光子晶體中的低折射率材料。如MgF2/Ag一維光子晶體可以通過改變薄膜厚度及膜層周期數(shù)進而有效調(diào)節(jié)其通頻帶的位置和中心頻率，可廣泛應用于傳感器、護目鏡、熱反射窗、發(fā)光二極管以及液晶顯示屏的透明電極等領域。
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迄今為止所知材料中，氟化鎂晶體是真空紫外波段透光性能好的材料之一。氟化鎂晶體從真空紫外到紅外段都有著良好的透過性，是一種常用的紅外、紫外探測器窗口材料。隨著大功率激光技術、高精度成像技術、紅外制導技術以及半導體光刻技術的迅猛發(fā)展，市場對氟化鎂的需求與日劇增，特別是高質(zhì)量單晶體在可以預見的一段時間內(nèi)都處于供不應求的狀態(tài)。
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與多晶氟化鎂相比，單晶在紫外區(qū)域具有更高的透射率。另外，單晶材料在物理性能上優(yōu)于多晶材料，具有高機械強度，并且抗熱沖擊并且不容易沿晶界開裂的優(yōu)點。氟化鎂在高溫下易于氧化或水解反應以產(chǎn)生氧化鎂雜質(zhì)。
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氟化鎂的蒸氣壓較高，并且在通過切克勞斯基方法生長的開放系統(tǒng)中原料易揮發(fā)，因此晶體生長過程需要在正壓條件下進行。首先，將晶體生長爐抽真空至真空，然后用高純度氬氣填充至略微正壓。氣體均勻后，將氬氣抽出以除去爐中的雜質(zhì)，例如水分和氧氣。重復該過程直到達到晶體爐中的真空狀態(tài)，并且將溫度升高至氟化鎂燒結材料的熔化。