崇明氟化鎂光學(xué)鍍膜材料生產(chǎn)廠家
發(fā)布時(shí)間：2024-09-20 01:10:00
崇明氟化鎂光學(xué)鍍膜材料生產(chǎn)廠家
氟化鎂晶體被應(yīng)用在光學(xué)系統(tǒng)中，它的透過(guò)波段為0.11μm-8.5μm。輻照不會(huì)導(dǎo)致色心的產(chǎn)生，它有良好的機(jī)械性能，可以承受熱和機(jī)械震動(dòng)，很大的外力才能使氟化鎂解理。氟化鎂單晶由于有微弱的雙折射性能，通常的切向?yàn)楣廨S垂直于晶片表面。
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氧化鎂的熔點(diǎn)高，不易揮發(fā)。殘留在生長(zhǎng)系統(tǒng)中的氧化鎂將減少晶體過(guò)濾，并導(dǎo)致缺陷，例如晶體內(nèi)部的散射顆粒。因此，在整個(gè)晶體生長(zhǎng)過(guò)程中必須避免氧氣和水蒸氣。有必要在氟化鎂原料中加入質(zhì)量百分比的除氧劑，不僅可以有效去除原料和結(jié)晶爐中的水分，還可以對(duì)原料進(jìn)行進(jìn)一步的氟化處理，避免水解或氧化。氟化鎂晶體材料
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氟化鋇一般有兩種形態(tài)，一種是無(wú)色透明的立方結(jié)晶體，還有一種是白色粉末狀。能夠溶于鹽酸、硝酸以及乙醇等有機(jī)溶劑，微溶于水。熔點(diǎn)為1368℃，沸點(diǎn)為2260℃。今天咱們就來(lái)說(shuō)說(shuō)氟化鋇進(jìn)行儲(chǔ)存的方法都有哪些。
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密閉操作、局部排風(fēng)，操作人員必須經(jīng)過(guò)專門培訓(xùn)，嚴(yán)格遵守操作規(guī)定。氟化鎂晶體在生長(zhǎng)過(guò)程中加入一定量的除氧劑，以防止氧或羥基進(jìn)入晶體中。將處理后的晶體料裝入石墨。
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氟化鎂的蒸汽壓較高，原料在提拉法生長(zhǎng)的敝開(kāi)體系中易揮發(fā)，因此晶體生長(zhǎng)過(guò)程需在正壓條件下進(jìn)行。首先將晶體生長(zhǎng)爐內(nèi)抽至真空，然后充入高純氬氣至微正壓，待氣體均勻后將氬氣抽出，從而將爐內(nèi)的水分和氧氣等雜質(zhì)排除。該過(guò)程重復(fù)進(jìn)行，直到晶體爐內(nèi)達(dá)到真空狀態(tài)，開(kāi)始升溫至氟化鎂燒結(jié)料熔化。