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房山二氧化硅光學鍍膜材料市場報價

發(fā)布時間:2024-09-21 01:09:52
房山二氧化硅光學鍍膜材料市場報價

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氟化鎂擁有較低的折射率低,能夠與高折射率材料組成較寬帶隙,可用作作光子晶體中的低折射率材料。如MgF2/Ag一維光子晶體可以通過改變薄膜厚度及膜層周期數進而有效調節(jié)其通頻帶的位置和中心頻率,可廣泛應用于傳感器、護目鏡、熱反射窗、發(fā)光二極管以及液晶顯示屏的透明電極等領域。

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氟化鎂晶體被應用在光學系統(tǒng)中,它的透過波段為0.11μm-8.5μm。輻照不會導致色心的產生,它有良好的機械性能,可以承受熱和機械震動,很大的外力才能使氟化鎂解理。氟化鎂單晶由于有微弱的雙折射性能,通常的切向為光軸垂直于晶片表面。

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氟化鎂是一種應用很廣泛的晶體,具有如下特性:1、在針孔紫外到紅外波段有很高的透過率。2、抗撞擊和熱波動以及輻照。3、良好的化學穩(wěn)定性。4、可用于光學棱透鏡、鍥角片、窗口和相關光學系統(tǒng)中。5、四方雙折射晶體性能,可用于光通訊。

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-二氧化硅與五氧化三鈦搭配使用可以鍍攝像模組類產品(手機鏡頭、相機鏡頭、監(jiān)控鏡頭等)和濾光片等。主要應用領域:增透膜、冷光膜、濾光器、攝像模組、濾光片。-在半導體領域,二氧化硅常用于二極管鍍膜,提高二極管的環(huán)境適應性和可靠性。