興城氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家供應(yīng)
發(fā)布時(shí)間：2025-02-06 01:00:20
興城氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家供應(yīng)
殘留在生長(zhǎng)體系中的氧化鎂會(huì)導(dǎo)致晶體過濾降低，并造成晶體內(nèi)部產(chǎn)生散射顆粒等缺陷，因此在整個(gè)晶體生長(zhǎng)過程中必須避免氧氣及水汽存在。在氟化鎂原料中需要加入一定質(zhì)量百分比的除氧劑，這樣不僅能有效除去原料和晶體爐內(nèi)的水分，還可以進(jìn)一步氟化原料，避免氟化鎂晶料水解或氧化。
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二氧化硅，分子式：SiO2 介紹二氧化硅是一種無色透明狀鍍膜材料，折射率穩(wěn)定，是一種低折射率材料，二氧化硅具有從紫外到到紅外的寬譜段高透性，具有良好的物理和化學(xué)穩(wěn)定性，在20世紀(jì)初，通過物理氣相沉積技術(shù)制作成二氧化硅薄膜，已被廣泛應(yīng)用于光學(xué)和光電子領(lǐng)域的基本材料。
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氟化鎂晶體被應(yīng)用在光學(xué)系統(tǒng)中，它的透過波段為0.11μm-8.5μm。輻照不會(huì)導(dǎo)致色心的產(chǎn)生，它有良好的機(jī)械性能，可以承受熱和機(jī)械震動(dòng)，很大的外力才能使氟化鎂解理。氟化鎂單晶由于有微弱的雙折射性能，通常的切向?yàn)楣廨S垂直于晶片表面。
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待功率達(dá)到6700W時(shí)，恒溫45min，再降到6400W恒溫45min。此時(shí)真空度一般達(dá)到10-5乇，然后以4mm/h的速度下降坩堝，進(jìn)行生長(zhǎng)。坩堝停降后，以150W/15min的速率降溫，直至室溫，然后取出氟化鎂晶體。