對(duì)于槽齡短、鋁液穩(wěn)定性好的氟化鎂電解槽，鋁水平保持盡量低些，鋁液水平可參考17—19厘米，槽工作電解壓保持4.15—4.19V，電解質(zhì)水平保持20—22厘米。

  對(duì)于氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家濃度在百分之八以上的電解槽。此階段分子比保持2.7—2.9，槽換極時(shí)間一定要短，嚴(yán)禁過(guò)度攪動(dòng)電解質(zhì)，換極后及時(shí)加保溫料，蓋好槽罩、注意適當(dāng)高的過(guò)熱度、鋁水平應(yīng)適當(dāng)下降，可適當(dāng)保持較高電解質(zhì)水平．以利于氧化鋁的溶解。

  當(dāng)氟化鎂含址在百分之十以上時(shí)，應(yīng)安排倒電解質(zhì)。將含量盡快降下來(lái)。此時(shí)電解質(zhì)不僅對(duì)氧化鋁溶解度和溶解速度很差，而且電解質(zhì)的密度和鋁液密度差不足0.1g/cm3，遠(yuǎn)比要求的 0.2g/cm3。導(dǎo)致鋁液易和電解質(zhì)相棍合，電流效率低。且由此引出許多電解槽病態(tài)。倒出的電解質(zhì)可做為以后階段調(diào)整鎂含量時(shí)使用。化冰晶石時(shí)對(duì)消除槽底結(jié)殼及沉淀有好處的。但注意一次效應(yīng)不應(yīng)過(guò)長(zhǎng)，以防對(duì)爐膛內(nèi)型造成破壞。

  對(duì)氟化鎂含量在百分之六至百分之八電解槽，保持分子比在 2.6—2.8 ，電解溫度保持 945—960 攝氏度（初晶溫度略上升，考慮到槽膛的形成，溫度并未上調(diào)）。

  氟化鎂含里在百分之四至百分之六時(shí)，保持分子比在 2.4—2.6 ，電解溫度保持 930—955 攝氏度。氟化鎂含量在百分之二至百分之四時(shí)．分子比控制在 2.3—2.5 ，氟化鈣百分之二至百分之四（自然累積），電解溫度保持 945—965 攝氏度。

氟化鎂光學(xué)鍍膜材料是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程.在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求.常用的鍍膜法有真空鍍膜和化學(xué)鍍膜.

物理性質(zhì)：無(wú)色結(jié)晶或白色粉末。金紅石型晶格。微有紫色熒光。極微溶于水(18℃，87mG/L)，微溶于稀酸(特別是硝酸)。相對(duì)密度3.18。熔點(diǎn)1248℃。沸點(diǎn)2260℃。

化學(xué)性質(zhì)：無(wú)色四方晶系晶體或粉末。無(wú)味。 能溶于硝酸，微溶于稀酸，難溶于水和醇。

用 途：光學(xué)透鏡鍍膜，陶瓷、電子工業(yè)，制造陶瓷、玻璃，冶金鎂金屬的助熔劑，光學(xué)儀器中鏡頭和濾光器的涂層，陰極射線屏的熒光材料，焊劑等。