一、光學(xué)鍍膜材料的分類：

　　1、從化學(xué)組成上，薄膜材料可分為：

　　氧化物類： 一氧化硅、二氧化硅、二氧化鋯、二氧化鈦、三氧化二鋁等

　　氟化物類：氟化鎂、氟化鐿、氟化鋇等

　　其它化合物類：硫化鋅、硒化鋅等

　　金屬（合金）類： 鉻粒、鈦粒、硅粒等光學(xué)鍍膜

　　2、從材料功用分，鍍膜材料可分為：

　　光功用材料：這種材料在外場（力、聲、熱、電、磁和光）的作用下，光學(xué)性質(zhì)會(huì)發(fā)生變化，因而可作為探測、維護(hù)和能量轉(zhuǎn)化的材料（如AgCl2,WO3等）。

　　光介質(zhì)材料：起傳輸光線的作用。這些材料以折射、反射和透射的方式改變光線的方向、強(qiáng)度和相位，使光線按預(yù)訂要求傳輸，也可吸收或透過必定波長規(guī)模的光線而調(diào)整光譜成份。

　　二、氟化鎂光學(xué)鍍膜材料的特點(diǎn)

　　從化學(xué)結(jié)構(gòu)上看，固體材料（薄膜）中存在著以下鍵力：離子鍵、共價(jià)鍵、金屬鍵、分子鍵（或范德華鍵）。由于化學(xué)鍵的特性，決定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特點(diǎn)：

　　1、氧化物膜料大都是雙電荷（或多電荷）的離子型晶體結(jié)構(gòu)，因而，決定了氧化物膜料具有熔點(diǎn)高、比嚴(yán)重、高折射率和高機(jī)械強(qiáng)度。它們的折射率一般在1.46~2.7之間。它們也被稱作硬介質(zhì)光學(xué)材料。

　　2、而氟化物中除含有離子鍵外，大多含有必定的結(jié)合力相對弱的分子鍵，并且氟離子的單電荷性都決定了氟化物膜料具有低熔點(diǎn)、小比重、低折射率和較差的機(jī)械強(qiáng)度（膜層較軟）。它們的折射率一般在1.35~1.47之間，它們也被稱為軟介質(zhì)光學(xué)薄膜材料。

　　3、金屬或合金含有大量的自由電子，當(dāng)光射到金屬或合金表面時(shí)，光子同電子云的表面層相互作用，使得金屬中的電子得到能量而本征激起，顯現(xiàn)金屬特有的光澤。一般金屬具有較強(qiáng)的反光性和吸光性，因而金屬（或合金）材料一般作為反光薄膜材料或光調(diào)理材料。

在迄今為止已知的材料中，氟化鎂光學(xué)鍍膜材料公司是在真空紫外線帶中具有最佳透光性能的材料之一。氟化鎂晶體具有從真空紫外到紅外范圍的良好滲透性，并且是紅外和紫外檢測器的常用窗口材料。隨著大功率激光技術(shù)，高精度成像技術(shù)，紅外制導(dǎo)技術(shù)和半導(dǎo)體光刻技術(shù)的飛速發(fā)展，市場對氟化鎂的需求急劇增加，尤其是在可預(yù)見的時(shí)間內(nèi)對高質(zhì)量單晶的需求。供不應(yīng)求的狀態(tài)。

高純度的氟化鎂物理性質(zhì)方面體現(xiàn)為粉末狀，在制備粉末狀的氟化鎂時(shí)有兩種方法。其中一種就是把堿式碳酸鎂焙燒成氧化鎂，再將其與氫氟酸發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，最后生成氟化鎂。這樣的方法可以不經(jīng)過粉碎就直接得到粉末狀的高純度氟化鎂。還有一種方法就是讓堿式碳酸鎂直接與氫氟酸發(fā)生反應(yīng)生成晶形沉淀，烘干后進(jìn)行粉碎，這種方法是最常見也是最實(shí)用的一種。