氟化鎂通常情況下為無色晶體或者白色粉末狀，帶有雜質(zhì)時(shí)，呈現(xiàn)出灰白色?？梢匀苡谙跛?，微溶于稀酸。在電光下加熱時(shí)會呈現(xiàn)出弱紫色的熒光，氟化鎂晶體具有良好的偏振作用，尤其適合用于紫外和紅外譜線。氟化鎂一般常用于生產(chǎn)陶瓷、玻璃以及冶煉金屬鋁和鎂的助熔劑產(chǎn)品，不僅如此，在光學(xué)儀器中的鏡頭和濾光涂層，光學(xué)透鏡的分折射劑，陰極射線屏的熒光材料領(lǐng)域和焊接劑、鈦顏料的涂著劑領(lǐng)域也都有廣泛的應(yīng)用。在我國氟化鎂最大的用途就是英語金屬鋁工業(yè)，而隨著我國經(jīng)濟(jì)的飛速發(fā)展，對于金屬鋁的需求不斷加大，因此也對氟化鎂的產(chǎn)量提出了較高的要求，所以研究氟化鎂生產(chǎn)的新工藝迫在眉睫。

   因?yàn)樵谥苽溥^程中產(chǎn)生的氟化氫是易揮發(fā)的氣體，有少量的逸出，所以工藝流程設(shè)計(jì)中應(yīng)當(dāng)予以考慮。可以選擇以水將其吸收，既可以減少對環(huán)境的污染，有可以回收一部分的氫氟酸，降低原料的消耗，當(dāng)吸收液增加到一定濃度之后，或打入礦漿槽用于礦漿粉漿化預(yù)處理，或打入濾液處理器中一并進(jìn)行處理。

   通過大量的實(shí)驗(yàn)以及數(shù)據(jù)分析，綜合國內(nèi)外生產(chǎn)氟化鎂的各種方法，在研發(fā)新工藝生產(chǎn)氟化鎂光學(xué)鍍膜材料時(shí)，選擇由氫氟酸和菱鎂礦粉來制取氟化鎂。之所以選擇這兩種材料作為生產(chǎn)原料，是由于該生產(chǎn)工藝設(shè)備簡單、易于操作、生產(chǎn)穩(wěn)定、能耗低和投資少等特點(diǎn)，而且在生產(chǎn)制備的過程中三廢處理措施完善，基本不會造成環(huán)境污染，不僅降低了人工成本的投入還可以有環(huán)保的效果，所以具有較好的經(jīng)濟(jì)效益和社會效益。

光學(xué)鍍膜的特點(diǎn)是:表面光滑，膜層之間的界面是幾何劃分的，膜層在界面上的折射率可以發(fā)生跳躍，但在膜層是連續(xù)的，可以是透明介質(zhì)，也可以是光學(xué)鍍膜。用物理或化學(xué)方法涂覆單層或多層透明介質(zhì)涂層，可在涂層表面涂覆，使下表面干涉相位變長或消除，使反射光增強(qiáng)或減弱，實(shí)現(xiàn)反射或反射。反光膜在現(xiàn)代被廣泛使用。高反射鏡是在玻璃基板上多層鍍膜而成的多層膜系統(tǒng)?；诜瓷湓鰪?qiáng)和反射增強(qiáng)原理的高反射率多層光學(xué)涂層廣泛應(yīng)用于激光器、激光陀螺和波分復(fù)用技術(shù)。

        氟化鎂光學(xué)鍍膜材料濺射鍍膜的基本原理如下：

濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應(yīng)用量最大的 PVD 鍍膜材料。營口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢