真空鍍膜加工的制備，包括金屬、半導(dǎo)體、絕緣體和其他元素或復(fù)合鍍膜。雖然化學(xué)氣相沉積也采用真空壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般的真空鍍膜是指通過(guò)物理方法沉積鍍膜。真空鍍膜有三種形式。真空鍍膜應(yīng)用廣泛，如真空鍍鋁，在塑料等基材上真空鍍膜，然后染成不同的顏色，可用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車(chē)燈具、鏡子及軟包裝材料等產(chǎn)品的制造，裝飾效果非常優(yōu)異。真空鍍膜技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)電沉積法無(wú)法形成的鍍膜:如鋁、鈦、鋯鍍膜，甚至陶瓷、金剛石鍍膜，非常有價(jià)值。氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家真空表面技術(shù)是客戶(hù)產(chǎn)品的“美”——更鮮艷、更明亮的外觀。

  將氟化鎂粉料與高純PbF2粉料均勻混合，裝入鉗堝，把鉗堝放在坩堝座上，裝好加熱體，調(diào)整坩堝底部，使其位于高溫區(qū)，再裝好保溫罩，封好爐子抽真空。

  待真空度達(dá)到10-4乇時(shí)，以500w功率加熱，烘料1.5-2h，然后以1000W/15min速率緩慢升溫。待功率達(dá)到6700W時(shí)，恒溫45min，再降到6400W恒溫45min。

  此時(shí)真空度一般達(dá)到10-5乇，然后以4mm/h的速度下降坩堝，進(jìn)行生長(zhǎng)。氟化鈣光學(xué)鍍膜材料坩堝停降后，以150W/15min的速率降溫，直至室溫，然后取出氟化鎂晶體。

主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡。它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和國(guó)防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，引起了越來(lái)越多的科學(xué)家和技術(shù)人員的關(guān)注。例如，在使用抗反射膜之后，復(fù)數(shù)光學(xué)透鏡的光通量損失可以減少到十倍。通過(guò)使用高反射比鏡，可以提高激光器的輸出功率，提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。