單晶體原子按統(tǒng)一的方式長程有序地排列著，顯示出擇優(yōu)取向性；由于不存在晶界，鄰近粒子間（或氟化鎂分子間）的束縛力強(qiáng)，結(jié)合成晶體后整個體系具有最小的能量。

  熔融狀態(tài)時，單晶體中的氟化鎂分子更易形成時聚時散的大分子集合體。

  多晶體則有無數(shù)尺寸不等的小晶粒無規(guī)則排列而成，空間取向幾率均等。晶粒間存在著大量的晶界，因此存在著較高的晶界能，鄰近離子間（或氟化鎂分子間）的束縛力弱。熔融狀態(tài)時，多晶體中氟化鎂單分子占主流。

  二者排列方式的差異可以保持到熔融狀態(tài)以后。

  從動力學(xué)和熱力學(xué)角度分析，氟化鎂真空蒸發(fā)是一個非平衡過程，氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家氟化鎂形成液態(tài)后，在高真空下會迅速以單分子或多分子形式從蒸發(fā)源蒸發(fā)出來。多晶氟化鎂在熔融狀態(tài)下單分子時聚時散的行為更加明顯，因此，在蒸發(fā)時以單分子蒸發(fā)為主。而單晶氟化鎂多以分子團(tuán)的形式蒸發(fā)。

光學(xué)鍍膜材料濺射鍍膜的基本原理如下：

濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應(yīng)用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應(yīng)用量最大的 PVD 鍍膜材料。

可根據(jù)客戶需求進(jìn)行真空鍍膜加工，多種顏色電鍍加工，氟化鎂光學(xué)鍍膜材料滿足客戶個性化的色彩需求。高溫電鍍，綠色環(huán)保，膜厚高，真金涂層，更好的護(hù)色性。真空涂層能承受蒸發(fā)源的熱輻射和冷凝熱;基材含水率小于0.1%。常用鋁基聚酯(PET)、聚丙烯(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚氯乙烯(PVC)等薄膜，加工真空度不低于103PA，可在薄膜上預(yù)涂一定量的干膠，然后通過真空鍍鋁，可提高鋁層與薄膜的結(jié)合力。營口市榮興達(dá)科技實業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢