熱壓氟化鎂在熱壓過程中，粉末態(tài)的氟化鎂微晶粒子在高溫高壓下被擠緊、壓碎和再分布，并產(chǎn)生范性形變，它會(huì)逐漸縮小和消除微氣孔，以此來實(shí)現(xiàn)晶粒表面間的強(qiáng)力接觸，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家能最大限度的降低自由能，從而形成具有高致密度和高強(qiáng)度的多晶體。

  20世紀(jì)70年代，一些研究所也對熱壓氟化鎂紅外材料進(jìn)行了研究，在跟蹤國外研究動(dòng)態(tài)的基礎(chǔ)上，結(jié)合國內(nèi)氟化鎂原料的實(shí)際情況，較好地解決了熱壓原料的制備與處理、熱壓溫場、壓力與氣氛的控制以及工藝參數(shù)的優(yōu)化組合、模具設(shè)計(jì)等技術(shù)關(guān)鍵，從而有效地減少了產(chǎn)品中的散射顆粒、裂紋等缺陷，質(zhì)量達(dá)到與國外產(chǎn)品同等水平，并研制出多種規(guī)格的紅外窗口和整流罩產(chǎn)品。

  目前，熱壓氧化鎂的應(yīng)用主要用于以中波紅外制導(dǎo)的導(dǎo)彈以及飛機(jī)的紅外前視窗口、紅外吊艙、光電雷達(dá)等系統(tǒng)中。紅外制導(dǎo)由于具有制導(dǎo)精度高、抗干擾能力強(qiáng)等優(yōu)勢，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料已逐漸成為制導(dǎo)武器實(shí)現(xiàn)精確打擊能力的重要技術(shù)手段，在軍事上有著舉足輕重的位置。我們對熱壓氟化鎂的研究也已研究了近半個(gè)世紀(jì)，但從目前現(xiàn)狀來看，它的發(fā)展還與很大的空間，提高材料的品質(zhì)與性能，將是未來工作的重點(diǎn)。

真空鍍膜主要是指需要在較高的真空下進(jìn)行鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等鍍膜，所以。有兩種主要類型的蒸發(fā)和濺射。涂層可以顯著改變光學(xué)元件，降低或增加光線的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。

濺射靶材首要運(yùn)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液赑顯現(xiàn)屏、激光存儲(chǔ)器、電子操控器材等亦可運(yùn)用于玻璃鍍膜范圍;還可以運(yùn)用于耐磨材料、低溫耐蝕、初級(jí)裝修用品等行濺射靶材的品種相當(dāng)多,靶材的分類有不同的辦法。