光學(xué)鍍膜材料的分類

主要的光學(xué)鍍膜材料包括反射膜、反反射膜、偏光片、干涉濾光片和分光鏡等。氟化鎂光學(xué)鍍膜材料,它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和國(guó)防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，越來越受到科學(xué)家和技術(shù)人員的重視。例如,抗反射膜的使用可以減少?gòu)?fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量的十倍,和激光的輸出功率可以乘以一個(gè)反射鏡具有高反射膜比、效率和穩(wěn)定的硅電池可以提高通過使用光學(xué)鍍膜材料。 

最簡(jiǎn)單的光學(xué)涂層材料模型是光滑的、各向同性的均勻介電膜。在這種情況下，光涂料材料的光學(xué)性質(zhì)可以用光干涉理論來研究。當(dāng)一束單色平面波在光學(xué)涂層材料上發(fā)生時(shí)，在它的兩個(gè)表面上有許多反射和折射。反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出。反射光的振幅由Finel公式?jīng)Q定。

光學(xué)鍍膜材料可分為反射膜、反反射膜/反反射膜、過濾器、偏振器/偏振膜、補(bǔ)償膜/相位差板、匹配膜、擴(kuò)散膜/薄膜、亮膜/棱鏡/聚光、遮光膜/黑色和白色膠水。有光學(xué)級(jí)保護(hù)膜和窗膜。

光學(xué)鍍膜材料的特點(diǎn)是表面光滑，層間界面呈幾何分割;膜的折射率可以在界面上跳躍，氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家但在膜中是連續(xù)的;它可以是透明介質(zhì)或吸收介質(zhì);它可以是均勻的，也可以不是均勻的。實(shí)際應(yīng)用的膠片要比理想膠片復(fù)雜得多。這是由于在制備薄膜時(shí)，薄膜的光學(xué)和物理性質(zhì)偏離了本體材料，表面和界面粗糙，導(dǎo)致了光束的漫反射;薄膜之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于薄膜的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)和應(yīng)力，薄膜具有多種異性性質(zhì);這部電影是復(fù)雜的。時(shí)間的效果。

反射膜一般可分為兩類:一類是金屬反射膜，另一類是全介電反射膜。另外，將兩者結(jié)合的金屬介質(zhì)反射膜，旨在提高光學(xué)表面的反射率。 

一般金屬具有較大的消光系數(shù)。當(dāng)光束從空氣到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬的光振幅迅速衰減，使金屬內(nèi)部的光能降低，反射光能量增加。消光系數(shù)越大，光幅衰減越快。進(jìn)入金屬的光能越小，反射率越高。具有高消光系數(shù)和穩(wěn)定光學(xué)性能的金屬通常被選為金屬薄膜材料。在紫外光區(qū)常用的金屬薄材料是鋁。在可見區(qū)域，通常使用鋁和銀。金、銀和銅通常用于紅外區(qū)。此外，鉻和鉑常被用作某些特殊薄膜的薄膜材料。由于鋁、銀、銅等材料易在空氣中氧化，降低其性能，必須用介電膜保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有氧化硅、氟化鎂、硅、三氧化二鋁。

金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，波長(zhǎng)范圍寬。缺點(diǎn)是光損失大，反射率不高。為了進(jìn)一步提高金屬反射膜的反射率，可以在膜外鍍一層一定厚度的介電層，形成金屬介電反射膜。需要指出的是，金屬介電膜增加了一定波長(zhǎng)(或波區(qū))的反射率，但破壞了金屬膜的中性反射特性。

光學(xué)鍍膜材料的原材料，絕大部分屬于儲(chǔ)量非常小的稀有金屬。這些稀有金屬隨著科技的發(fā)展，其需求長(zhǎng)期看漲。隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來更多的精彩。

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