高分子冰晶石與普通冰晶石以及再生冰晶石有著不同的特點(diǎn)，與其相比高分子冰晶石操作更簡單更高效。其中高分子冰晶石最為突出的特點(diǎn)有以下幾點(diǎn)：

　　1．高分子冰晶石分子比高，可穩(wěn)定在2.8—3.0之間；主含量高，雜質(zhì)含量低，實(shí)收率高。 

　　2．新啟動(dòng)槽使用高分子冰晶石具有比普通冰晶石電解質(zhì)水平平穩(wěn)、收縮較慢、分子比變化平緩等優(yōu)點(diǎn)，這些優(yōu)點(diǎn)有利于電解質(zhì)成分的穩(wěn)定保持；陰極吸鈉均勻，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料因此有利于延長電解槽壽命；電解溫度合理、變化小，易于控制；揮發(fā)損失少，所以能有效的改善現(xiàn)場作業(yè)條件。 

　　3．高分子冰晶石可大量節(jié)約氟化鈉或純堿用量，降低生產(chǎn)成本。 　　

　　4．高分子冰晶石分為三種狀態(tài)：砂狀（80目）、粉狀（200-325目）、粒狀（0-10mm）三種?？蓾M足不同行業(yè)的需求。

    砂狀冰晶石（80目）：砂狀冰晶石，經(jīng)眾多氟化鹽專家、電解鋁專家共同研制開發(fā)而成。該產(chǎn)品經(jīng)“國家輕金屬質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)中心”檢測，各項(xiàng)性能指標(biāo)均達(dá)到或超過冰晶石國家標(biāo)準(zhǔn)。砂狀冰晶石具有熔點(diǎn)低，熔化速度快的特點(diǎn)?？煽s短進(jìn)入正常工作狀態(tài)的時(shí)間。砂狀冰晶石顆粒較大，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家流動(dòng)性好，大部份顆粒集中在240目-80目，便于機(jī)械化、自動(dòng)化下料。

　　粉狀冰晶石（200-325目）：粉狀冰晶石特別適合電解鋁啟槽，還適用于樹脂砂輪的耐磨填充劑、金屬熔劑玻璃遮光劑、搪瓷乳白劑等。使用時(shí)添加方法簡單，易于操作。

　　粒狀冰晶石（0-10mm）：主要用作鋁電解的助熔劑，特別適用于電解鋁啟槽和正常生產(chǎn)。電解鋁生產(chǎn)中實(shí)收率比較高，可以降低電解鋁的成本；并具有流動(dòng)性好、無粉塵污染的優(yōu)點(diǎn)，適合機(jī)械化下料。

真空鍍膜:真空鍍膜主要是指需要較高真空的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等鍍膜，所以。有兩種主要類型的蒸發(fā)和濺射。將所述電鍍材料制成底物，將所述電鍍材料用作靶材或藥物。營口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎你的來電咨詢