一、真空蒸發(fā)鍍膜

真空蒸發(fā)(Vacuum Evaporation) 鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)，使之升華，蒸發(fā)粒子流直接射向基片，并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜，或加熱蒸發(fā)鍍膜材料的真空鍍膜方法。

優(yōu)點(diǎn)：設(shè)備簡(jiǎn)單、操作容易；薄膜純度高、氟化鈣光學(xué)鍍膜材料厚度可較準(zhǔn)確控制；成膜速率快，效率高。

缺點(diǎn)：密度差（只能達(dá)到理論密度的95%）；薄膜附著力較小。

目前，真空蒸發(fā)鍍膜更多的應(yīng)用于建筑工程五金、衛(wèi)浴五金、鐘表、小五金，甚至輪轂、不銹鋼型材、家具、照明設(shè)備及酒店用品、裝飾品的表面處理。

二、真空濺射鍍膜

用幾十電子伏或更高動(dòng)能的荷能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠高的能量而濺出進(jìn)入氣相，這種濺出的、復(fù)雜的粒子散射過(guò)程稱(chēng)為濺射。真空濺射鍍膜就是利用濺射現(xiàn)象實(shí)現(xiàn)制取各種薄膜。

優(yōu)點(diǎn)：膜厚可控性和重復(fù)性好；與基片的附著力強(qiáng)；氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家膜層純度高質(zhì)量好；可制備與靶材不同的物質(zhì)膜。

缺點(diǎn)：成膜速度比蒸發(fā)鍍膜低；基片溫度高；易受雜質(zhì)氣體影響；裝置結(jié)構(gòu)較復(fù)雜。

目前Z常用的濺射鍍膜技術(shù)是磁控濺射鍍膜技術(shù)。這種技術(shù)能增加與氣體的碰撞幾率，提高靶材的濺射速率，Z終提高沉積速率。因此更適用于具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的功能性薄膜、裝飾領(lǐng)域、微電子領(lǐng)域。

三、真空離子鍍膜

真空離子鍍膜是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種鍍膜新技術(shù)。通過(guò)在等離子體中進(jìn)行整個(gè)氣相沉積過(guò)程，真空離子鍍膜工藝大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優(yōu)異性能的膜層，擴(kuò)大了“薄膜”的應(yīng)用領(lǐng)域。

優(yōu)點(diǎn)：附著力強(qiáng)，不易脫落；改善了膜層的覆蓋性；鍍層質(zhì)量高；成膜速度快；密度高、晶粒小。

缺點(diǎn)：基板須是導(dǎo)電材料。

由于鍍膜性能出色，真空離子鍍膜有著更廣的應(yīng)用領(lǐng)域，目前主要應(yīng)用于：機(jī)械零件、飛機(jī)、船舶、汽車(chē)、排氣管、飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)、高速轉(zhuǎn)動(dòng)件、工具、超硬工模具等。

四、化學(xué)氣相沉積（CVD）

CVD技術(shù)利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而在基體表面上生成不揮發(fā)的涂層。

優(yōu)點(diǎn)：操作簡(jiǎn)單、靈活性強(qiáng)，適用于單一或復(fù)合膜層和合膜層；適用性廣泛；沉積速率可達(dá)每分鐘幾微米到數(shù)百微米，生產(chǎn)效率高；適用于涂覆形狀復(fù)雜的基體；涂層致密性好。

缺點(diǎn)：沉積溫度高，易導(dǎo)致基材性能下降；反應(yīng)氣體、反應(yīng)尾氣可能具有一定的腐蝕性、可燃性及毒性；鍍層很薄。

冰晶石氟化物為什么能防齲

(1) 推進(jìn)再礦化。許多專(zhuān)家以為，增強(qiáng)抗齲力的關(guān)鍵是添加牙釉質(zhì)表面的氟濃度，使氟離子能與牙釉質(zhì)中的羥磷灰石發(fā)作反響替代磷灰石結(jié)晶的羥離子，而構(gòu)成難溶于水的氟磷灰石，增強(qiáng)抗酸強(qiáng)力。牙釉質(zhì)表面的氟的首要來(lái)歷是攝入全身的氟化物有少數(shù)經(jīng)過(guò)唾液腺和齦溝液排泄到唾液中，別的就是部分涂氟。

隨著光電子產(chǎn)業(yè)的日益發(fā)展，許多成像和數(shù)碼顯示的各種產(chǎn)品越來(lái)越趨于高亮度、超高清晰度、超大面積、超精細(xì)的結(jié)構(gòu)方向發(fā)展，因而對(duì)光電子產(chǎn)業(yè)所使用的材料也趨于更高要求。例如極好的、安定的折射率，極高的密度、純度和高透光度的均質(zhì)化材料被不斷開(kāi)發(fā)和應(yīng)用。營(yíng)口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎您的來(lái)電咨詢(xún)