冰晶石，主要用作鋁電解的助熔劑，也用作橡膠、砂輪的耐磨填充劑、琺瑯的乳白劑、玻璃的遮光劑和金屬熔劑等。尤其在電解鋁行業(yè)中，冰晶石可謂是控制著電解鋁生產(chǎn)的咽喉要害，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料冰晶石的質(zhì)量和數(shù)量關(guān)乎電解鋁企業(yè)的效益和競(jìng)爭(zhēng)力?！?/span>

高分子比冰晶石是冰晶石家族的一個(gè)分支。

　 1、外觀為白色，微黃、微灰或淺赤色，粒度根據(jù)用處或客戶需求進(jìn)行調(diào)整。

　 2、分子比高，分子比可安穩(wěn)在2.7—3.0之間；主含量高，雜質(zhì)含量低，實(shí)收率高。

　 高分子比冰晶石的使用優(yōu)勢(shì)：

　 1、新發(fā)動(dòng)槽運(yùn)用高分子比冰晶石電解質(zhì)水平平穩(wěn)、縮短較慢、分子比改變陡峭，利于電解質(zhì)成分的安穩(wěn)堅(jiān)持；電解溫度合理、改變小，易于控制；陰極吸鈉均勻，利于延伸電解槽壽數(shù)；蒸發(fā)丟失少，能有用的改善現(xiàn)場(chǎng)作業(yè)條件。

　 2、可節(jié)省很多氟化鈉或純堿用量，下降生產(chǎn)成本。

　 3、增加辦法簡(jiǎn)略，易于操作。

用幾十電子伏或更高動(dòng)能的荷能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠高的能量而濺出進(jìn)入氣相，這種濺出的、復(fù)雜的粒子散射過程稱為濺射。真空濺射鍍膜就是利用濺射現(xiàn)象實(shí)現(xiàn)制取各種薄膜。

優(yōu)點(diǎn)：膜厚可控性和重復(fù)性好；與基片的附著力強(qiáng)；氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家膜層純度高質(zhì)量好；可制備與靶材不同的物質(zhì)膜。

缺點(diǎn)：成膜速度比蒸發(fā)鍍膜低；基片溫度高；易受雜質(zhì)氣體影響；裝置結(jié)構(gòu)較復(fù)雜。

目前Z常用的濺射鍍膜技術(shù)是磁控濺射鍍膜技術(shù)。這種技術(shù)能增加與氣體的碰撞幾率，提高靶材的濺射速率，Z終提高沉積速率。因此更適用于具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的功能性薄膜、裝飾領(lǐng)域、微電子領(lǐng)域。

其主要特點(diǎn)是尺寸可做得相當(dāng)大，薄膜濾光片，一般透過的波長(zhǎng)較長(zhǎng)，多用做紅外濾光片，后者是在一定片基，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜，或全介質(zhì)膜，構(gòu)成一種低級(jí)次的﹑多級(jí)串聯(lián)實(shí)心法布里-珀羅干涉儀，膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方式的選擇，由所需要的中心波長(zhǎng)和透射帶寬λ確定。營(yíng)口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢