二氧化硅，分子式：SiO2

介紹

二氧化硅是一種無色透明狀鍍膜材料，折射率穩(wěn)定，是一種低折射率材料，二氧化硅具有從紫外到到紅外的寬譜段高透性，具有良好的物理和化學(xué)穩(wěn)定性，在20世紀初，通過物理氣相沉積技術(shù)制作成二氧化硅薄膜，已被廣泛應(yīng)用于光學(xué)和光電子領(lǐng)域的基本材料。氟化鎂光學(xué)鍍膜材料

類型分類

目前市面上二氧化硅主要是按照形狀不同分為：二氧化硅晶體顆粒，二氧化硅晶體柱狀顆粒和二氧化硅晶體切片

規(guī)格介紹

- 二氧化硅晶體顆粒常規(guī)尺寸為： 1-3mm，3-5mm

- 二氧化硅晶體柱狀顆粒常規(guī)尺寸為：2*4mm

-二氧化硅晶體切片常規(guī)尺寸為：20*10mm

二氧化硅純度一般為99.9%和99.99%

產(chǎn)品應(yīng)用

-在鍍膜工藝中，二氧化硅常作為金屬或者其他材料的表面抗刮和保護層，鍍制保護膜。

-二氧化硅也可用于光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環(huán)境中，通過膜系設(shè)計，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達到提升光纖的透過或高反的目的。

-二氧化硅與五氧化三鈦搭配使用可以鍍攝像模組類產(chǎn)品（手機鏡頭、相機鏡頭、監(jiān)控鏡頭等）和濾光片等。

主要應(yīng)用領(lǐng)域：增透膜、冷光膜、濾光器、攝像模組、濾光片。

-在半導(dǎo)體領(lǐng)域，二氧化硅常用于二極管鍍膜，提高二極管的環(huán)境適應(yīng)性和可靠性。

-二氧化硅還是常見的觸摸屏鍍膜材料，常常搭配鋯氧化物和氧化銦錫一起用于觸摸屏表面的鍍膜。