討論氟化鎂晶體的特性分析

2022-11-19 16:44:39

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氟化鎂降低氧化鋁的溶解度和溶解速度。在現(xiàn)有下料方式下，極易使下料點附近電解質(zhì)中氧化鋁濃度過飽和而在槽底造成大量沉淀。低分子比也會使電解質(zhì)初晶溫度降低。故當(dāng)氟化鎂含量很高時，決不允許采用低分子比。

當(dāng)氟化鎂含量逐步下降時，可適當(dāng)調(diào)低分子比。另外，氟化鎂會增大鋁-電解質(zhì)界面的張力，氟化鎂光學(xué)鍍膜材料使鋁的溶解損失降低；增大電解質(zhì)與炭素材料界面張力，有利炭渣排出。

特別值得一提的是氟化鎂是一種礦化劑，可加速r-Al2O3向α-Al2O3轉(zhuǎn)變，形成含百分之八十α-Al2O3的側(cè)部爐幫，對提高電流效率、保持側(cè)部筑塊、人造伸腿和局部陰極炭塊是有利的。

但問題的反面是，過高的氟化鎂也會促進爐底沉淀迅速轉(zhuǎn)化成爐底結(jié)殼，這對我們的生產(chǎn)是有害的。除繼續(xù)降過高的氟化鎂含量外，目前可采取適當(dāng)降低鋁水平，使槽熱源中心向槽底靠攏，保持較高過熱度，控制適當(dāng)?shù)男?yīng)系數(shù)，減少沉淀生成等綜合措施逐步進行調(diào)整。

氟化鎂是一種應(yīng)用很廣泛的晶體，具有如下特性：

1、在針孔紫外到紅外波段有很高的透過率。

2、抗撞擊和熱波動以及輻照。

3、良好的化學(xué)穩(wěn)定性。

4、可用于光學(xué)棱透鏡、鍥角片、窗口和相關(guān)光學(xué)系統(tǒng)中。

5、四方雙折射晶體性能，可用于光通訊。

氟化鎂光學(xué)鍍膜材料