對(duì)于槽齡短、鋁液穩(wěn)定性好的氟化鎂電解槽，鋁水平保持盡量低些，鋁液水平可參考17—19厘米，槽工作電解壓保持4.15—4.19V，電解質(zhì)水平保持20—22厘米。

  對(duì)于氟化鎂濃度在百分之八以上的電解槽。此階段分子比保持2.7—2.9，槽換極時(shí)間一定要短，嚴(yán)禁過(guò)度攪動(dòng)電解質(zhì)，換極后及時(shí)加保溫料，蓋好槽罩、注意適當(dāng)高的過(guò)熱度、鋁水平應(yīng)適當(dāng)下降，可適當(dāng)保持較高電解質(zhì)水平．以利于氧化鋁的溶解。

  當(dāng)氟化鎂含址在百分之十以上時(shí)，應(yīng)安排倒電解質(zhì)。將含量盡快降下來(lái)。此時(shí)電解質(zhì)不僅對(duì)氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家溶解度和溶解速度很差，而且電解質(zhì)的密度和鋁液密度差不足0.1g/cm3，遠(yuǎn)比要求的 0.2g/cm3。導(dǎo)致鋁液易和電解質(zhì)相棍合，電流效率低。且由此引出許多電解槽病態(tài)。倒出的電解質(zhì)可做為以后階段調(diào)整鎂含量時(shí)使用。化冰晶石時(shí)對(duì)消除槽底結(jié)殼及沉淀有好處的。但注意一次效應(yīng)不應(yīng)過(guò)長(zhǎng)，以防對(duì)爐膛內(nèi)型造成破壞。

  對(duì)氟化鎂含量在百分之六至百分之八電解槽，保持分子比在 2.6—2.8 ，電解溫度保持 945—960 攝氏度（初晶溫度略上升，考慮到槽膛的形成，溫度并未上調(diào)）。

  氟化鎂含里在百分之四至百分之六時(shí)，保持分子比在 2.4—2.6 ，電解溫度保持 930—955 攝氏度。氟化鎂含量在百分之二至百分之四時(shí)．分子比控制在 2.3—2.5 ，氟化鈣百分之二至百分之四（自然累積），電解溫度保持 945—965 攝氏度。

可以得到密度好、純度高、鍍層均勻的薄膜。氟化鎂光學(xué)鍍膜材料哪些材料不能真空鍍?普通玻璃不能，但平板耐高溫玻璃，直徑或?qū)挾刃∮?/span>10-12cm，可以做真空電鍍;鐵質(zhì)材料由于鐵質(zhì)具有磁性，根據(jù)磁控濺射的原理鍍膜不能真空鍍。真空電鍍是行業(yè)中的一個(gè)總稱，它屬于電鍍技術(shù)的一種，屬于表面真空鍍膜處理技術(shù)，它環(huán)保高效，解決了很多表面處理上的問(wèn)題。

薄膜的成膜過(guò)程，是一個(gè)物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過(guò)程，不可避免地在成膜后的膜層中會(huì)有應(yīng)力存在，對(duì)于多層膜來(lái)說(shuō)有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的，有的是張應(yīng)力、有的是壓應(yīng)力，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。

應(yīng)力的存在對(duì)膜強(qiáng)度是有害的，輕者是膜層耐不住摩擦，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細(xì)道子。

對(duì)于減反膜，由于層數(shù)不多，應(yīng)力一般體現(xiàn)不明顯，(但有些硝材的鏡片即便是減反膜也有應(yīng)力問(wèn)題存在。)而層數(shù)較多的高反膜、濾光膜，應(yīng)力是一個(gè)常見(jiàn)的不良因素，應(yīng)特別注意。