隨著科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展與進(jìn)步，不斷改變?nèi)藗兩畹耐瑫r(shí)，也對(duì)材料性能提出了更高要求，高純度氟化鎂是一種重要的無機(jī)化工原料和光學(xué)材料，由于具有眾多的優(yōu)良性能，在當(dāng)今科技高速發(fā)展的時(shí)代，其應(yīng)用越來越廣泛，包括鋁電解、金屬鎂的冶煉、催化劑載體、光學(xué)棱鏡及窗口元件等各個(gè)行業(yè)和領(lǐng)域。

   高純度的氟化鎂具有優(yōu)良的性能，主要包括：高溫下的低化學(xué)活性以及高抗腐蝕性，高熱穩(wěn)定性以及高硬度，從真空紫外120nm到紅外的80μｍ范圍內(nèi)非常優(yōu)異的透過率、低折射率（ｎ＝1.38）；寬帶隙（10.8ｅＶ),在真空紫外波段到紅外波段吸收均很小。此外，氟化鎂的晶體還具有雙折射性和較高的激光損傷閾值。這些優(yōu)異的性能使得氟化鎂在光學(xué)、催化以及其他很多領(lǐng)域都有重要作用。

  氟化鎂光學(xué)鍍膜材料硬度高、熱穩(wěn)定性好、表面化學(xué)活性低、耐腐蝕性好， 可以作為催化劑或催化劑載體用于特殊環(huán)境的催化反應(yīng)中，同時(shí)還是良好的紅外窗口和整流罩以及民用紅外探測(cè)器的候選材料。

   近年來，氟化鎂的應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣泛， 特別是隨著紫外及紅外段光電技術(shù)的飛速發(fā)展，氟化鎂在激光原件、集成光學(xué)、光纖通訊。紙幣防偽等高端領(lǐng)域的應(yīng)用日漸增多。相信隨著科研水平、材料制造技術(shù)、測(cè)試技術(shù)等的不斷發(fā)展，氟化鎂將會(huì)在更高端技術(shù)領(lǐng)域中發(fā)揮越來越重要的作用。

通過氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家加工需要用到鍍膜材料，鍍膜主要是指需要在較高真空條件下進(jìn)行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等鍍膜，因此，鍍膜和濺射主要有兩種類型。將電鍍材料制成基材，電鍍材料用作靶材或藥材。襯底與靶體處于同一真空中。

㈠ 鍍后烘烤，最后一層膜鍍完后，烘烤不要馬上停止，延續(xù) 10分鐘“回火”。讓膜層結(jié)構(gòu)趨于穩(wěn)定。

㈠ 降溫時(shí)間適當(dāng)延長(zhǎng)，退火時(shí)效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應(yīng)力。

㈡ 對(duì)高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中，基片溫度不宜過高，高溫易產(chǎn)生熱應(yīng)力。并且對(duì)氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學(xué)穩(wěn)定性有負(fù)面作用。

㈢ 鍍膜過程離子輔助，減少應(yīng)力。

㈣ 選擇合適的膜系匹配，第一層膜料與基片的匹配。(如五層減反膜采用Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2;ZrO2也可以采用SV-5(一種ZrO2 TiO2混和膜料)或其他混合高折射率膜料。。

㈤ 適當(dāng)減小蒸發(fā)速率(Al2O3-2.5A/S;ZrO2-3A/S;MgF2-6A/S參考速率)

㈥ 對(duì)氧化物膜料全部充氧反應(yīng)鍍，根據(jù)不同膜料控制氧進(jìn)氣量。