隨著科學技術的飛速發(fā)展與進步，不斷改變?nèi)藗兩畹耐瑫r，也對材料性能提出了更高要求，高純度氟化鎂是一種重要的無機化工原料和光學材料，由于具有眾多的優(yōu)良性能，在當今科技高速發(fā)展的時代，其應用越來越廣泛，包括鋁電解、金屬鎂的冶煉、催化劑載體、光學棱鏡及窗口元件等各個行業(yè)和領域。

   高純度的氟化鎂具有優(yōu)良的性能，主要包括：高溫下的低化學活性以及高抗腐蝕性，高熱穩(wěn)定性以及高硬度，從真空紫外120nm到紅外的80μｍ范圍內(nèi)非常優(yōu)異的透過率、低折射率（ｎ＝1.38）；寬帶隙（10.8ｅＶ),在真空紫外波段到紅外波段吸收均很小。此外，氟化鎂的晶體還具有雙折射性和較高的激光損傷閾值。這些優(yōu)異的性能使得氟化鎂在光學、催化以及其他很多領域都有重要作用。

   氟化鎂硬度高、熱穩(wěn)定性好、表面化學活性低、耐腐蝕性好， 可以作為催化劑或催化劑載體用于特殊環(huán)境的催化反應中，同時還是良好的紅外窗口和整流罩以及民用紅外探測器的候選材料。

   近年來，氟化鎂的應用領域越來越廣泛， 特別是隨著紫外及紅外段光電技術的飛速發(fā)展，氟化鎂在激光原件、集成光學、光纖通訊。紙幣防偽等高端領域的應用日漸增多。相信隨著科研水平、材料制造技術、測試技術等的不斷發(fā)展，氟化鎂將會在更高端技術領域中發(fā)揮越來越重要的作用。

通過氟化鎂光學鍍膜材料廠家加工需要用到鍍膜材料，鍍膜主要是指需要在較高真空條件下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等鍍膜，因此，鍍膜和濺射主要有兩種類型。將電鍍材料制成基材，電鍍材料用作靶材或藥材。襯底與靶體處于同一真空中。

㈠ 鍍后烘烤，最后一層膜鍍完后，烘烤不要馬上停止，延續(xù) 10分鐘“回火”。讓膜層結構趨于穩(wěn)定。

㈠ 降溫時間適當延長，退火時效。減少由于真空室內(nèi)外溫差過大帶來的熱應力。

㈡ 對高反膜、濾光膜等在蒸鍍過程中，基片溫度不宜過高，高溫易產(chǎn)生熱應力。并且對氧化鈦、氧化鉭等膜料的光學穩(wěn)定性有負面作用。

㈢ 鍍膜過程離子輔助，減少應力。

㈣ 選擇合適的膜系匹配，第一層膜料與基片的匹配。(如五層減反膜采用Al2O3-ZrO2-Al2O3-Al2O3-ZrO2-MgF2;ZrO2也可以采用SV-5(一種ZrO2 TiO2混和膜料)或其他混合高折射率膜料。。

㈤ 適當減小蒸發(fā)速率(Al2O3-2.5A/S;ZrO2-3A/S;MgF2-6A/S參考速率)

㈥ 對氧化物膜料全部充氧反應鍍，根據(jù)不同膜料控制氧進氣量。

氟化鎂在光學領域中大展身手

氟化鎂是一種重要的光學薄膜材料。尤其是紫外波段低吸收的特點使其成為該波段位數(shù)不多的光學薄膜材料之一，因此也得到了廣泛的應用。

   （1）金屬反射鏡的保護膜。金屬具有優(yōu)良的反射性能，常被用作高反射鏡，由于鋁銀等材料容易損壞，因此通常在表面鍍一層氟化鎂保護膜。

   （2）氟化鎂增透膜和增反膜。氟化鎂的可見波段折射率是1.38，是應用最廣泛的單層增透膜材料。

   （3）氟化鎂光學鍍膜材料。氟化鎂的低折射率，容易與高折射率材料構成寬帶隙的光子晶體。

在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，樣品蒸發(fā)后的儲存、制備和測試是在手套箱中的高純度惰性氣體氣氛中進行的。真空鍍膜的應用，簡單理解就是在真空環(huán)境下，采用蒸發(fā)、濺射及后續(xù)冷凝的方法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體及塑料件等物體上涂覆金屬膜或涂層。

1. TELEMARK-270°電子槍（進口），6KW、高壓4KV-10KV可調(diào)。定位掃描、三角波掃描、圓形掃描、螺旋掃描。束斑聚焦性好、定位精度高，掃描再現(xiàn)性好。

2. 國產(chǎn)電子槍（振華）：6KW、高壓4 KV～8KV可調(diào)，可自由選擇三角波、正弦波、方波掃描。

3. 坩堝：六穴Φ38×20坩堝或四穴Φ38×20加一穴中心弧長87的弧形坩堝（用于耗量大低熔點蒸發(fā)材料）或四穴Φ48×18坩堝。

離子源（選配）

1. RF（射頻型）離子源（進口）。

2. 5KVA霍爾離子源（振華產(chǎn)），用于電鍍前清洗或電鍍過程進行輔助鍍，有利于提高膜層折射率，牢固度、提高膜層致密性、附著力。

膜厚控制系統(tǒng)（選型）

1．MDC-360晶控器（進口）可儲存1～99層自動鍍膜過程，99種程序數(shù)據(jù)，精度0.5%+1? 固定誤差。2TELEMARK-880晶控器（進口）：可儲存1～99層自動鍍膜過程、99種程序數(shù)據(jù)。精度0.5%+1? 固定誤差。

3．TELEMARK-820光控器（進口）：采用多波長的全光譜終點分析技術，通過對監(jiān)控片370-870㎜的透射率（或反射率）曲線分析來判定膜層終了?？刂凭雀撸瑫r也可采用單波長控制、自動控制和手動控制。附加MACILEOD膜系計算軟件,一體化程度高。

4．TELEMARK-820光控器配合TELEMARK-880晶控器能滿足高精度、高重復性的鍍膜要求。與上位機配合可以實現(xiàn)全自動控制。

5．國產(chǎn)光控器（如9704型配套單色儀等）波長330～870 可調(diào)，精度可達到±1.5nm。

手操器

帶磁底座，可安置在真空室門及控柜任意位置。