作為兩類最常見的真空蒸發(fā)鍍膜，熱電阻蒸鍍是將原料置于采用鉬、鎢等高熔點(diǎn)金屬制作成的蒸發(fā)舟上，通過(guò)電流加熱蒸發(fā)；電子束蒸鍍是將原料置于冷坩堝中，通過(guò)電子束加熱蒸發(fā)。

   由于氟化鎂的熔點(diǎn)較低，采用熱電阻蒸鍍，阻蒸電流可調(diào)范圍大，可通過(guò)緩慢調(diào)節(jié)電流進(jìn)行預(yù)蒸鍍，消除原料中的氣體和水分等雜質(zhì)，同時(shí)能夠有效地防止因電流密度過(guò)大在成原料受熱不均勻引起的噴濺，從而蒸鍍均勻無(wú)殘留。

薄膜系統(tǒng)已經(jīng)開發(fā)出來(lái)。金、銀、銅、鋁的厚度為7 ~ 20um時(shí)，可見光的透過(guò)率為50%，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料紅外光的透過(guò)率小于10%。這種薄膜已經(jīng)成功地用于阿波羅帆板上，它可以穿透一些可見光，并反射幾乎所有的紅外光來(lái)產(chǎn)生熱量。控制。光學(xué)鍍膜材料模型是光滑的、各向同性的均勻介電薄膜。在這種情況下，可以利用光干涉理論研究氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)單色平面波發(fā)生在光學(xué)鍍膜材料上時(shí)，在其兩個(gè)表面上有許多反射和折射。反射和折射光的方向是由反射和折射定律確定的。

常見目標(biāo)材料的種類，如

常規(guī)金靶材料:鎂、錳、鐵、鐵、鈷、鎳、銅、銅、鋅、鉛、錫、鋁

小金屬目標(biāo)銦，鍺鍺鍺，鎵，銻銻，鉍，鎘

耐火金屬靶材有鈦、鋯、鉿、釩釩Nb、鉭、鉻、鉬、鎢、錸

貴金屬目標(biāo):金AU，銀Ag，鈀Pd，鉑鉑，銥R，釕Ru，銠Rh，鋨等

半金屬靶碳C，硼B，碲Te，硒Se

濺射目標(biāo)是否是稀缺資源。

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