單 位：營口市榮興達科技實業(yè)股份有限公司
地 址：蓋州市東城工業(yè)園區(qū)
郵 編：115200
電 話：0417-7503188
劉經(jīng)理：13940749207
王經(jīng)理：13832452268
劉經(jīng)理：13804173427
傳 真：0417-7502588
信 箱：rxd@rxdchem.com
網(wǎng) 址：http://www.rxdchem.com/
目前，光學鍍膜材料常用品種已達60余種，而且其品種、應用功能還在不斷被開發(fā)。近年來以發(fā)展到了金屬膜系，當金、銀、銅和鋁的厚度為7～20um時，其對可見光的透射率為50%，而紅外光透射率小于10%，這種薄膜已成功地應用于阿波羅宇宙飛船的面板，用于透過部分可見光，而反射幾乎全部的紅外光以進行熱控制。以下本文主要介紹光學鍍膜材料的特性原理及分類。
二氧化硅光學鍍膜材料真空鍍膜技術憑借其環(huán)保、節(jié)能、安全、可控的特點，在國家可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略下，市場覆蓋面迅速擴大;另一方面，表面處理技術對被加工對象的表面進行各種改性改造，強化了被處理對象表面的耐磨性、耐腐蝕性、光滑度等性能，使被加工對象在使用過程中大大減少了損耗和浪費，達到節(jié)能環(huán)保的效果，符合國家對行業(yè)政策和行業(yè)規(guī)劃的指導。真空鍍膜的高性價比和低污染的特點將成為表面處理行業(yè)的主流技術。
氟化鎂專用氧化鎂主要起到吸酸、中和作用，主要用于制造陶瓷、玻璃；冶金鎂金屬的助溶劑；二氧化硅光學鍍膜材料廠家光學儀器中鏡頭和濾光器的涂層；陰極射線屏的熒光材料；焊劑等。
使用要求：
一般是含量≥93%，鈣≤1.0%，如果做高端的氟化鎂，含量要求99%以上，鈣要求鈣≤0.05%。
注意事項：
硫酸鹽和鹽酸不溶物不能高，細度細點會更好。更加氟化鎂生產工藝，配方不同，也可以使用氫氧化鎂作為原料。
