氟化鋁具有能夠調(diào)節(jié)電解質(zhì)的特質(zhì)，因而在工業(yè)企業(yè)中受到廣泛的應(yīng)用。但在傳統(tǒng)的溫法工藝生產(chǎn)中，干燥后產(chǎn)品的冷卻問題成為主要問題。本篇將介紹一下氟化鋁在國內(nèi)的現(xiàn)狀以及一些相關(guān)的制備方法。

    在傳統(tǒng)的溫法工藝生產(chǎn)中，由于干燥之后產(chǎn)品溫度較高，這會導(dǎo)致一系列的問題，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家例如漏料、“燙袋”、占地多、儲運(yùn)周期長，這些相當(dāng)費(fèi)工費(fèi)時的問題，可以說是困擾著氟化鹽生產(chǎn)企業(yè)的長時間的問題。自從六十年代以來，鋁工業(yè)發(fā)展勢頭迅猛，對于氟化鋁的需求量也不斷攀升，直至八十年代世界上的鋁工廠對其需求已達(dá)到四十五萬噸。近年來鋁制品的應(yīng)用也愈發(fā)廣泛，需求量更是大大增加。在世界范圍內(nèi)，氟化鋁的工藝制法主要是干法濕法兩種方法。而其中濕法又因?yàn)樵系年P(guān)系分為三種。而干法也有好幾種不同的工藝流程。目前世界上的主流制法是采用干法流程。

真空鍍膜采用磁控離子濺射、多弧離子鍍等先進(jìn)的綠色真空鍍膜技術(shù)。氟化鈣光學(xué)鍍膜材料其基本原理是:在真空室中，利用電弧(或輝光)放電產(chǎn)生的能量直接蒸發(fā)(或?yàn)R射)和電離目標(biāo)(金屬或鈦合金等)產(chǎn)生金屬離子。事實(shí)上，真空鍍膜技術(shù)和光學(xué)鍍膜技術(shù)有點(diǎn)不同，對吧?光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))膜的過程。光學(xué)零件表面涂層的目的是降低或增加對光線的反射、分裂、分色、濾波和偏振的要求。真空鍍膜是指在高真空狀態(tài)下加熱金屬或非金屬材料，使其在鍍膜部件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結(jié)成膜的方法。

薄膜的成膜過程，是一個物質(zhì)形態(tài)的轉(zhuǎn)變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會有應(yīng)力存在，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現(xiàn)出的應(yīng)力是有所不同的，有的是張應(yīng)力、有的是壓應(yīng)力，還有膜層及基片的熱應(yīng)力。

應(yīng)力的存在對膜強(qiáng)度是有害的，輕者是膜層耐不住摩擦，重者，造成膜層的龜裂或網(wǎng)狀細(xì)道子。