氟化鎂降低氧化鋁的溶解度和溶解速度。在現(xiàn)有下料方式下，極易使下料點附近電解質(zhì)中氧化鋁濃度過飽和而在槽底造成大量沉淀。低分子比也會使電解質(zhì)初晶溫度降低。故當氟化鎂含量很高時，決不允許采用低分子比。

  當氟化鎂含量逐步下降時，可適當調(diào)低分子比。另外，氟化鎂會增大鋁-電解質(zhì)界面的張力，使鋁的溶解損失降低；增大電解質(zhì)與炭素材料界面張力，有利炭渣排出。

  特別值得一提的是氟化鎂是一種礦化劑，可加速r-Al2O3向α-Al2O3轉變，形成含百分之八十α-Al2O3的側部爐幫，對提高電流效率、保持側部筑塊、人造伸腿和局部陰極炭塊是有利的。

  但問題的反面是，過高的氟化鎂也會促進爐底沉淀迅速轉化成爐底結殼，氟化鈣光學鍍膜材料這對我們的生產(chǎn)是有害的。除繼續(xù)降過高的氟化鎂含量外，目前可采取適當降低鋁水平，使槽熱源中心向槽底靠攏，保持較高過熱度，控制適當?shù)男禂?shù)，減少沉淀生成等綜合措施逐步進行調(diào)整

光學鍍膜的特點是:表面光滑，膜層之間的界面是幾何劃分的，膜層在界面上的折射率可以發(fā)生跳躍，但在膜層是連續(xù)的，可以是透明介質(zhì)，也可以是光學鍍膜。用物理或化學方法涂覆單層或多層透明介質(zhì)涂層，可在涂層表面涂覆，使下表面干涉相位變長或消除，使反射光增強或減弱，實現(xiàn)反射或反射。反光膜在現(xiàn)代被廣泛使用。高反射鏡是在玻璃基板上多層鍍膜而成的多層膜系統(tǒng)?；诜瓷湓鰪姾头瓷湓鰪娫淼母叻瓷渎识鄬庸鈱W涂層廣泛應用于激光器、激光陀螺和波分復用技術。

一般情況，在減反膜中，這是膜弱的主要原因。氟化鈣光學鍍膜材料廠家由于基片表面在光學冷加工及清洗過程中不可避免地會有一些有害雜質(zhì)附著在表面上，而基片的表面由于光學冷加工的作用，總有一些破壞層，深入在破壞層的雜質(zhì)(如水汽、油汽、清洗液、擦拭液、拋光粉等，其中水汽為主要)，很難以用一般的方法去除干凈，特別對于親水性好，吸附力強的基片尤其如此。當膜料分子堆積在這些雜質(zhì)上時，就影響了膜層的附著，也就影響了膜強度。

此外，如果基片的親水性差、吸附力差，對膜層的吸附也差，同樣會影響膜強度。營口市榮興達科技實業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢