熱壓氟化鎂紅外材料作為紅外制導(dǎo)導(dǎo)彈的紅外窗口和整流罩，是導(dǎo)彈的關(guān)鍵部件，它既要有好的光學(xué)性能，以保證紅外探測(cè)的質(zhì)量；又能在惡劣環(huán)境中工作，經(jīng)受導(dǎo)彈高速飛行時(shí)的氣動(dòng)沖擊及由氣動(dòng)沖擊加熱帶來(lái)的熱沖擊和風(fēng)沙雨雪、酸堿、海水等的機(jī)械和化學(xué)侵蝕等，保護(hù)導(dǎo)彈內(nèi)部的光學(xué)系統(tǒng)、傳感器等不被外界環(huán)境損傷。

  因此，要求紅外材料除具有高的紅外透光率、低的散射、雙折射、熱輻射等光學(xué)性能外，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料還要求材料必須具有良好的力學(xué)性能、熱學(xué)性能、化學(xué)性能等。同時(shí)，要求材料具有良好的加工性能，以便于各種幾何形狀的窗口和整流罩產(chǎn)品的光學(xué)加工。

  熱壓氟化鎂的紅外透過波段在0.7-9μm之間，其中在3-7μm波段，2mm厚樣片的紅外透過率已達(dá)80%；在3-5μm中波紅外波段，2mm厚樣片的紅外透過率可達(dá)90%以上，熱壓氟化鎂是現(xiàn)有紅外窗口和整流罩材料中自身透過率最高的。

  同時(shí)，熱壓氟化鎂的折射率為1.3812±0.005(λ=0.5893μm)，且折射率隨溫度的變化系數(shù)dn/dt僅為1.1×10-6K-1,在紅外窗口和整流罩材料中是最小的。

鍍膜按其用途分類、特點(diǎn)及應(yīng)用可分為:反射膜、增透膜/增透膜、濾光片、偏光膜/偏光膜、/匹配膜、擴(kuò)散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生品種類有光學(xué)保護(hù)膜、窗膜等。通過在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上鍍或涂一層或多層介質(zhì)或金屬薄膜或兩者的結(jié)合，來(lái)改變光波的傳輸特性，包括傳輸、反射、吸收、散射、極化和相位變化。二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家制備作為精密制造領(lǐng)域之一，其精度往往達(dá)到納米甚至微納米級(jí)別，因此，其制備復(fù)雜性不言而喻，有時(shí)小的失誤會(huì)導(dǎo)致完全損失，為鍍膜制備帶來(lái)極大的困難。

濺射靶材是否為稀缺資源?我們都知道目標(biāo)材料是被高速高能粒子轟擊的目標(biāo)材料。濺射靶材主要用于電子和信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器等。它也可以應(yīng)用于玻璃涂層領(lǐng)域。也可用于耐磨材料、耐高溫腐蝕、高檔裝飾產(chǎn)品等行業(yè)。

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