氟化鎂降低氧化鋁的溶解度和溶解速度。在現(xiàn)有下料方式下，極易使下料點(diǎn)附近電解質(zhì)中氧化鋁濃度過飽和而在槽底造成大量沉淀。低分子比也會使電解質(zhì)初晶溫度降低。故當(dāng)氟化鎂含量很高時，決不允許采用低分子比。

  當(dāng)氟化鎂含量逐步下降時，可適當(dāng)調(diào)低分子比。另外，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料氟化鎂會增大鋁-電解質(zhì)界面的張力，使鋁的溶解損失降低；增大電解質(zhì)與炭素材料界面張力，有利炭渣排出。

  特別值得一提的是氟化鎂是一種礦化劑，可加速r-Al2O3向α-Al2O3轉(zhuǎn)變，形成含百分之八十α-Al2O3的側(cè)部爐幫，對提高電流效率、保持側(cè)部筑塊、人造伸腿和局部陰極炭塊是有利的。

  但問題的反面是，過高的氟化鎂也會促進(jìn)爐底沉淀迅速轉(zhuǎn)化成爐底結(jié)殼，這對我們的生產(chǎn)是有害的。除繼續(xù)降過高的氟化鎂含量外，目前可采取適當(dāng)降低鋁水平，使槽熱源中心向槽底靠攏，保持較高過熱度，控制適當(dāng)?shù)男?yīng)系數(shù)，減少沉淀生成等綜合措施逐步進(jìn)行調(diào)整。

光學(xué)鍍膜的特點(diǎn)是:表面光滑，膜層之間的界面是幾何劃分的，膜層在界面上的折射率可以發(fā)生跳躍，但在膜層是連續(xù)的，可以是透明介質(zhì)，也可以是光學(xué)鍍膜。用物理或化學(xué)方法涂覆單層或多層透明介質(zhì)涂層，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家可在涂層表面涂覆，使下表面干涉相位變長或消除，使反射光增強(qiáng)或減弱，實(shí)現(xiàn)反射或反射。反光膜在現(xiàn)代被廣泛使用。高反射鏡是在玻璃基板上多層鍍膜而成的多層膜系統(tǒng)?；诜瓷湓鰪?qiáng)和反射增強(qiáng)原理的高反射率多層光學(xué)涂層廣泛應(yīng)用于激光器、激光陀螺和波分復(fù)用技術(shù)。

稀有金屬

罕見的稀有金屬

稀土金屬包括鈧、釔和鑭。它們的化學(xué)性質(zhì)非常相似，在礦物中相互聯(lián)系。

稀有放射性金屬

濺射靶材包括天然存在的鈁、鐳、釙和錒系金屬中的錒、釷、鏷、鈾,以及人工制造的锝、钷、鋼系其他元素和104至107號元素

上述分類不是十分嚴(yán)格的。有些稀有金屬既可以列入這一類又可列入另一類。例如錸可列入稀散金屬也可列入稀有難熔金屬。