對(duì)于槽齡短、鋁液穩(wěn)定性好的氟化鎂電解槽，鋁水平保持盡量低些，鋁液水平可參考17—19厘米，槽工作電解壓保持4.15—4.19V，電解質(zhì)水平保持20—22厘米。

  對(duì)于氟化鎂濃度在百分之八以上的電解槽。此階段分子比保持2.7—2.9，槽換極時(shí)間一定要短，嚴(yán)禁過度攪動(dòng)電解質(zhì)，換極后及時(shí)加保溫料，蓋好槽罩、注意適當(dāng)高的過熱度、鋁水平應(yīng)適當(dāng)下降，可適當(dāng)保持較高電解質(zhì)水平．以利于氧化鋁的溶解。

  當(dāng)氟化鎂含址在百分之十以上時(shí)，應(yīng)安排倒電解質(zhì)。氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家將含量盡快降下來(lái)。此時(shí)電解質(zhì)不僅對(duì)氧化鋁溶解度和溶解速度很差，而且電解質(zhì)的密度和鋁液密度差不足0.1g/cm3，遠(yuǎn)比要求的 0.2g/cm3。導(dǎo)致鋁液易和電解質(zhì)相棍合，電流效率低。且由此引出許多電解槽病態(tài)。倒出的電解質(zhì)可做為以后階段調(diào)整鎂含量時(shí)使用?；瘯r(shí)對(duì)消除槽底結(jié)殼及沉淀有好處的。但注意一次效應(yīng)不應(yīng)過長(zhǎng)，以防對(duì)爐膛內(nèi)型造成破壞。

  對(duì)氟化鎂含量在百分之六至百分之八電解槽，保持分子比在 2.6—2.8 ，電解溫度保持 945—960 攝氏度（初晶溫度略上升，考慮到槽膛的形成，溫度并未上調(diào)）。

  氟化鎂含里在百分之四至百分之六時(shí)，保持分子比在 2.4—2.6 ，氟化鎂光學(xué)鍍膜材料電解溫度保持 930—955 攝氏度。氟化鎂含量在百分之二至百分之四時(shí)．分子比控制在 2.3—2.5 ，氟化鈣百分之二至百分之四（自然累積），電解溫度保持 945—965 攝氏度。

鍍膜按其用途分類、特點(diǎn)及應(yīng)用可分為:反射膜、增透膜/增透膜、濾光片、偏光膜/偏光膜、/匹配膜、擴(kuò)散膜/片、增亮膜/棱鏡片/聚光片、遮光膜/黑白膠等。相關(guān)衍生品種類有光學(xué)保護(hù)膜、窗膜等。通過在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上鍍或涂一層或多層介質(zhì)或金屬薄膜或兩者的結(jié)合，來(lái)改變光波的傳輸特性，包括傳輸、反射、吸收、散射、極化和相位變化。光學(xué)鍍膜制備作為精密制造領(lǐng)域之一，其精度往往達(dá)到納米甚至微納米級(jí)別，因此，其制備復(fù)雜性不言而喻，有時(shí)小的失誤會(huì)導(dǎo)致完全損失，為鍍膜制備帶來(lái)極大的困難。

稀有金屬通常指在自然界中分布較少或分布較少的金屬。它們很難從原料中提取，并在以后的工業(yè)中得到了準(zhǔn)備和應(yīng)用。但是現(xiàn)代工業(yè)的范圍很廣。

使用。中國(guó)稀土資源豐富，鎢、鈦、稀土、釩、鋯、鉭、鈮、鋰、鈹?shù)纫烟矫鲀?chǔ)量居世界前列。中國(guó)正在逐步建立稀有金屬工人。