氟化鎂硬度高、熱穩(wěn)定性好、表面化學(xué)活性低、耐腐蝕性好，可以作為催化劑或催化劑載體用于特殊環(huán)境的催化反應(yīng)中。

  研究表明，氟化鎂主要使用的催化體系有：

  加氫脫硫反應(yīng)、加氫脫氯反應(yīng)、氨氧化反應(yīng)、氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家氮氧化物脫除反應(yīng)、Knoevenagel 反應(yīng)、CO氧化反應(yīng)、丙酮的光降解反應(yīng)、硝基苯催化加氫制備氯代苯胺的反應(yīng)等，并且在含有腐蝕性氣體及反應(yīng)介質(zhì)的催化反應(yīng)體系中具有獨特的優(yōu)勢。

  但是，由于氟化鎂比表面積較小，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料表面酸性較弱，在一定程度上限制了其在催化劑領(lǐng)域的應(yīng)用。

  提高氟化鎂比表面積及表面酸性的方法有：在氟化鎂中混合一定比例的MgO、金屬摻雜等。

光學(xué)鍍膜鏡片通常涂單層或多層氟化鎂增透膜，單層增透膜可將反射降低到1.5%，多層增透膜可將反射降低到0.25%，因此如果整個范圍涂得適當(dāng)，透光率可達95%。涂有單層增透膜的鏡片通常為藍紫色或紅色，而涂有多層增透膜的鏡片則為淺綠色或深紫色。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供一種新的薄膜制備工藝。

根據(jù)形狀的不同，將目標(biāo)分為長目標(biāo)、方目標(biāo)和圓目標(biāo)。

化學(xué)成分分類:金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)、合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合金等)、陶瓷靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)

根據(jù)應(yīng)用分類:半導(dǎo)體芯片目標(biāo)、平面顯示目標(biāo)、太陽能電池目標(biāo)、信息存儲目標(biāo)、工具修改目標(biāo)、電子零件目標(biāo)、其他目標(biāo)材料