氟化鎂硬度高、熱穩(wěn)定性好、表面化學(xué)活性低、耐腐蝕性好，可以作為催化劑或催化劑載體用于特殊環(huán)境的催化反應(yīng)中。

研究表明，氟化鎂主要使用的催化體系有：

  加氫脫硫反應(yīng)、加氫脫氯反應(yīng)、氨氧化反應(yīng)、氟化鈣光學(xué)鍍膜材料廠家氮氧化物脫除反應(yīng)、Knoevenagel 反應(yīng)、CO氧化反應(yīng)、丙酮的光降解反應(yīng)、硝基苯催化加氫制備氯代苯胺的反應(yīng)等，并且在含有腐蝕性氣體及反應(yīng)介質(zhì)的催化反應(yīng)體系中具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。

  但是，由于氟化鎂比表面積較小，表面酸性較弱，在一定程度上限制了其在催化劑領(lǐng)域的應(yīng)用。

  提高氟化鎂比表面積及表面酸性的方法有：在氟化鎂中混合一定比例的MgO、金屬摻雜等。

光學(xué)鍍膜鏡片通常涂單層或多層氟化鎂增透膜，單層增透膜可將反射降低到1.5%，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料多層增透膜可將反射降低到0.25%，因此如果整個(gè)范圍涂得適當(dāng)，透光率可達(dá)95%。涂有單層增透膜的鏡片通常為藍(lán)紫色或紅色，而涂有多層增透膜的鏡片則為淺綠色或深紫色。真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供一種新的薄膜制備工藝。

濺射工藝是一種物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)。亞光束，轟擊面，離子和物體表面之間的動(dòng)能交換，使表面的原子離開固體并沉積在基底表面。被轟擊的固體是濺射沉積薄膜的原料，稱為濺射靶材。營(yíng)口市榮興達(dá)科技實(shí)業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢