氟化鎂專用氧化鎂主要起到吸酸、中和作用，主要用于制造陶瓷、玻璃；冶金鎂金屬的助溶劑；光學(xué)儀器中鏡頭和濾光器的涂層；陰極射線屏的熒光材料；焊劑等。

  使用要求：

  一般是含量≥93%，鈣≤1.0%，如果做高端的氟化鎂，含量要求99%以上，鈣要求鈣≤0.05%。

  注意事項(xiàng)：

  硫酸鹽和鹽酸不溶物不能高，細(xì)度細(xì)點(diǎn)會(huì)更好。更加氟化鎂生產(chǎn)工藝，配方不同，也可以使用氫氧化鎂作為原料。

真空鍍膜技術(shù)憑借其環(huán)保、節(jié)能、安全、可控的特點(diǎn)，氟化鎂光學(xué)鍍膜材料廠家在國家可持續(xù)發(fā)展戰(zhàn)略下，市場覆蓋面迅速擴(kuò)大;另一方面，表面處理技術(shù)對(duì)被加工對(duì)象的表面進(jìn)行各種改性改造，強(qiáng)化了被處理對(duì)象表面的耐磨性、耐腐蝕性、光滑度等性能，使被加工對(duì)象在使用過程中大大減少了損耗和浪費(fèi)，達(dá)到節(jié)能環(huán)保的效果，符合國家對(duì)行業(yè)政策和行業(yè)規(guī)劃的指導(dǎo)。真空鍍膜的高性價(jià)比和低污染的特點(diǎn)將成為表面處理行業(yè)的主流技術(shù)。

光學(xué)涂層由薄層介質(zhì)組成，其通過界面?zhèn)鬏敼馐?。光學(xué)薄膜的應(yīng)用始于20世紀(jì)30年代，在光學(xué)和光電子技術(shù)中，光學(xué)薄膜已廣泛應(yīng)用于制造各種光學(xué)儀器。

主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡。氟化鎂光學(xué)鍍膜材料它們?cè)趪窠?jīng)濟(jì)和國防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，引起了越來越多的科學(xué)家和技術(shù)人員的關(guān)注。例如，在使用抗反射膜之后，復(fù)數(shù)光學(xué)透鏡的光通量損失可以減少到十倍。通過使用高反射比鏡，可以提高激光器的輸出功率，提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。