近年來(lái)，氟化鎂的應(yīng)用領(lǐng)域是越來(lái)越廣泛了，特別是隨著紫外及紅外波段光電技術(shù)的飛速發(fā)展，氟化鎂在激光元件、OLED發(fā)光、集成光學(xué)、光纖通訊、紙幣防偽等高端領(lǐng)域的應(yīng)用日漸增多。隨著科研水平、材料制造技術(shù)、測(cè)試技術(shù)等不斷的發(fā)展，氟化鎂將會(huì)在更多高端領(lǐng)域發(fā)揮越來(lái)越重要的作用。

    一、氟化鎂晶體結(jié)構(gòu)

    ①氟化鎂的化學(xué)式位MgF2，分子量位62.3，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料無(wú)色結(jié)晶或白色粉末；②在燈光下產(chǎn)生紫色熒光；③溶于硝酸，難溶于水和乙醇。④熔點(diǎn)1248℃，有毒。⑤氟化鎂具有四方金紅石結(jié)構(gòu)，空間群為P42/mnm，晶胞參數(shù)為a=b=0.4615nm，c=0.3043nm，a=β=γ=90°⑥氟化鎂晶胞中每個(gè)氟離子周?chē)?/span>3個(gè)鎂離子，每個(gè)鎂離子周?chē)?/span>6個(gè)氟離子。

    二、氟化鎂晶體的性能

    氟化鎂具有很多優(yōu)良的性能，如：①高溫下的低化學(xué)活性及高抗腐蝕性；②高熱穩(wěn)定性以及高硬度；③從真空紫外120nm到紅外的80μm范圍內(nèi)非常優(yōu)異的透過(guò)率、低折射率（n=1.38）；④寬帶隙（10.8eV），在真空紫外波段到紅外波段吸收均很小。⑤此外，氟化鎂晶體還具有雙折射性能和較高的激光損傷閾值。

    這些優(yōu)異性能使得氟化鎂在光學(xué)、催化及其它眾多領(lǐng)域都有很重要的應(yīng)用。

    科學(xué)在進(jìn)步，在不斷的改變?nèi)藗兊纳?，氟化鈣光學(xué)鍍膜材料公司同時(shí)對(duì)材料的要求也越來(lái)越高。氟化鎂的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛，其性能及結(jié)構(gòu)都凸顯出了它的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。

真空鍍膜加工主要有真空蒸發(fā)、濺射和離子鍍膜，它們都是在真空條件下使用，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方法在塑料表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過(guò)這種方式可以獲得非常薄的表面光面，同時(shí)附著力好快的優(yōu)點(diǎn)，但成本較高，主要加工在不銹鋼金屬表面。磁控濺射是涂層技術(shù)中突出的成就之一。

硬膜濾光片：不僅指薄膜硬度方面，更重要的是它的激光損傷閾值，所以它廣泛應(yīng)用于激光系統(tǒng)當(dāng)中，面軟膜濾光片則主要用于生化分析儀當(dāng)中

帶通型： 選定波段的光通過(guò)，通帶以外的光截止，其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(zhǎng)(CWL)，半帶寬(FWHM)，分為窄帶和寬帶，比如窄帶濾光片