氟化鋁是一種無色或白色的結晶，氟化鋁不溶于水，而且不溶于酸和堿有著非常穩(wěn)定的性質，一般來說可以通過加熱的情況下進行水解從而用于煉鋁，下面我們就來了解一下氟化鋁的生產工藝與制作方法：

一、濕法生產工藝(屬淘汰工藝)：

硫酸和螢石高溫反應后產生的氣體，直接吸收成30%～35%的氫氟酸，氟化鎂光學鍍膜材料廠家與氫氧化鋁在90℃左右合成為AlF3?3H2O，經過濾后,進入高溫脫水干燥，最后得氟化鋁AlF3成品。由于脫水時產生的水蒸汽回分解AlF3，因此，濕法氟化鋁含量低，雜質多，水份含量高，堆密度低，流動性差?；旧喜贿m應現(xiàn)代電解槽使用?；瘜W指標為：F≥57%，Al≥28%，Na≤3.5%，H2O≤7%。

二、干法生產工藝(干法氟化鋁)：

  1、粗酸干法：硫酸和螢石高溫反應后產生的氣體，經過粗洗后進入流化床，與干燥后的氫氧化鋁反應，在高溫下生成氟化鋁。由于粗洗后的氟化氫含量約96%，雜質較高，氟化鋁產品的雜質也就比較高；特別是沒有脫硅，使得氟化鋁產品的二氧化硅含量達到0.25%。這些雜質會影響電解鋁的質量，增加電解時的電耗。F≥61%，Al≥30%，Na≤0.5%，H2O≤0.5%，SiO2≤0.28%，P2O5≤0.04%，Fe2O3≤0.1%

  2、精酸干法：硫酸和螢石高溫反應后產生的氣體，經過粗洗、冷凍、脫氣、精餾后進入蒸發(fā)器，此時氟化氫的含量一般為99.5%；蒸發(fā)出的氟化氫氣體(含量接近100%)進入流化床，與濕氫氧化鋁反應，在高溫下生成氟化鋁。由于氟化氫純度高，這樣生產的氟化鋁質量很好，雜質很低，特別是二氧化硅含量只有0.02%，五氧化二磷含量只有0.007%，對電解鋁的生產非常有利。F≥62%，Al≥32%，Na≤0.5%，H2O≤0.5%，SiO2≤0.03%，P2O5≤0.01%，Fe2O3≤0.03%。

真空鍍膜加工的制備，包括金屬、半導體、絕緣體和其他元素或復合鍍膜。雖然化學氣相沉積也采用真空壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般的真空鍍膜是指通過物理方法沉積鍍膜。真空鍍膜有三種形式。氟化鎂光學鍍膜材料真空鍍膜應用廣泛，如真空鍍鋁，在塑料等基材上真空鍍膜，然后染成不同的顏色，可用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車燈具、鏡子及軟包裝材料等產品的制造，裝飾效果非常優(yōu)異。

此外,靶材所屬的新資料范圍,如今現(xiàn)已失掉了國度的高度注重和鼎力支持。在鍍膜商場需求增多、國度扶持力度加大的狀況下,一批靶材企業(yè)將會迅速生長起來,成爲靶材職業(yè)的引領者,帶動職業(yè)的展開,發(fā)明可觀的經濟效益和社會效益。