【中文名稱】氟化鎂

【英文名稱】magnesium fluoride

【結(jié)構(gòu)或分子式】

【密度】3.148

【熔點（℃）】1266

【沸點（℃）】2239

【性狀】白色四方粉晶。

【溶解情況】微溶于水，溶于硝酸，不溶于乙醇。

【用途】用于制造陶瓷、玻璃；冶金鎂金屬的助熔劑；二氧化硅光學鍍膜材料廠家光學儀器中鏡頭和濾光器的涂層；陰極射線屏的熒光材料；焊劑等。

【制備或來源】將碳酸鎂用水調(diào)糊逐漸倒入沖稀一半的氫氟酸中反應(yīng)，將沉淀在400℃干燥而得。

氟化鎂是氟化工行業(yè)的一種精細下游產(chǎn)品，也是一種重要的無機化工原料，可以作為生產(chǎn)特種陶瓷、玻璃、熱壓晶體的原料，作為冶煉金屬鋁和鎂的助熔劑，焊接中作為焊接劑，作為眼里的涂著劑，也可用于制備光學儀器中的各種鏡片和濾光涂層、陰極射線屏中的熒光材料等精密部件。近年來隨著科學技術(shù)的發(fā)展，其應(yīng)用越來越廣，市場上對氟化鎂的需求逐步增大。真空鍍膜應(yīng)用廣泛，如真空鍍鋁，在塑料等基材上真空鍍膜，然后染成不同的顏色，二氧化硅光學鍍膜材料可用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車燈具、鏡子及軟包裝材料等產(chǎn)品的制造，裝飾效果非常優(yōu)異。真空鍍膜技術(shù)可以實現(xiàn)電沉積法無法形成的鍍膜:如鋁、鈦、鋯鍍膜，甚至陶瓷、金剛石鍍膜，非常有價值。真空表面技術(shù)是客戶產(chǎn)品的“美”——更鮮艷、更明亮的外觀。

常規(guī)的長方體形和囻柱體形磁控濺射靶爲實心的,是以圓環(huán)形永磁體在靶材表面樹立環(huán)形磁場,在軸間等間隔的環(huán)形表面構(gòu)成刻蝕區(qū),因而影響堆積薄膜厚度的平均性,靶材的應(yīng)用率僅爲20%~30%。國際外正在推行運用的旋轉(zhuǎn)圓柱磁控濺射靶是空心圓管,它可盤繞面走的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn),可360度平均刻蝕靶面,靶材應(yīng)用率高達80%不保是企業(yè)展開需求思索的戰(zhàn)略要素。