硫酸和螢石在高溫的條件之下經(jīng)過反應(yīng)會產(chǎn)生一種氣體，我們能夠吸收三成的氫氟酸，這種的氟化鋁就會和氫氧化鋁在90攝氏度左右的時候形成另外一種鋁的化合物。經(jīng)過過濾之后，進入之后高溫脫水干燥，最后就能夠得到三氟化鋁的成品了。

    由于脫水時產(chǎn)生的水蒸汽回分解AlF3，因此，濕法氟化鋁含量低，雜質(zhì)多，水份含量高，堆密度低，流動性差。基本上不適應(yīng)現(xiàn)代電解槽使用。 化學指標為：F≥57％   Al≥28%      Na≤ 3.5％   H2O≤7％。 

 氟化鋁產(chǎn)品用途:在鋁的生產(chǎn)中作電解浴組分，用以降低熔點和提高電解質(zhì)的電導率。用于生產(chǎn)酒精時作發(fā)酵的抑止劑。用作陶瓷外層釉彩和搪瓷釉的助熔劑、非鐵金屬的熔劑。氟化鈣光學鍍膜材料在金屬焊接中用于焊接液.用于制造光學透鏡。還用作有機合成的催化劑及人造冰晶石的原料等。

二、干法生產(chǎn)工藝(干法氟化鋁)：    1、粗酸干法：硫酸和螢石高溫反應(yīng)后產(chǎn)生的氣體，經(jīng)過粗洗后進入流化床，與干燥后的氫氧化鋁反應(yīng)，在高溫下生成氟化鋁。由于粗洗后的氟化氫含量約96％，雜質(zhì)較高，氟化鋁產(chǎn)品的雜質(zhì)也就比較高；特別是沒有脫硅，使得氟化鋁產(chǎn)品的二氧化硅含量達到0.25%。這些雜質(zhì)會影響電解鋁的質(zhì)量，增加電解時的電耗。  F≥61％   Al≥30％   Na≤0.5％   H2O≤0.5％  SiO2≤0.28％  P2O5≤0.04％ Fe2O3≤0.1％  SO42-≤0.5％    2、精酸干法：硫酸和螢石高溫反應(yīng)后產(chǎn)生的氣體，經(jīng)過粗洗、冷凍、脫氣、精餾后進入蒸發(fā)器，此時氟化氫的含量一般為99.5%；蒸發(fā)出的氟化氫氣體（含量接近100％）進入流化床，氟化鈣光學鍍膜材料廠家與濕氫氧化鋁反應(yīng)，在高溫下生成氟化鋁。由于氟化氫純度高，這樣生產(chǎn)的氟化鋁質(zhì)量很好，雜質(zhì)很低，特別是二氧化硅含量只有0.02%，五氧化二磷含量只有0.007%，對電解鋁的生產(chǎn)非常有利。F≥62％   Al≥32％   Na≤0.5％   H2O≤0.5％  SiO2≤0.03％  P2O5≤0.01％  Fe2O3≤0.03％  SO42-≤0.03％。

根據(jù)運用范圍分爲微電子靶材、磁記載靶材、光碟靶材、貴金屬靶材、膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝修層靶材、電極靶材、其他靶材。營口市榮興達科技實業(yè)股份有限公司歡迎您的來電咨詢