氟化鋁產(chǎn)品的產(chǎn)品工藝是什么樣的二氧化硅光學(xué)鍍膜材料

2023-01-07 09:05:30

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酸和螢石高溫反應(yīng)之后就會產(chǎn)生一種氣體，我們可以直接吸收三成的氫氟酸，這種氟化鋁會和氫氧化鋁在90度左右成為了另外的一種鋁的化合物。經(jīng)過過濾之后，進入之后高溫脫水干燥，最后就能夠得到三氟化鋁的成品了。

由于脫水時產(chǎn)生的水蒸汽回分解AlF3，因此，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料濕法氟化鋁含量低，雜質(zhì)多，水份含量高，堆密度低，流動性差?；旧喜贿m應(yīng)現(xiàn)代電解槽使用。化學(xué)指標(biāo)為：F≥57％ Al≥28% Na≤ 3.5％ H2O≤7％。

氟化鋁產(chǎn)品用途:在鋁的生產(chǎn)中作電解浴組分，用以降低熔點和提高電解質(zhì)的電導(dǎo)率。用于生產(chǎn)酒精時作發(fā)酵的抑止劑。用作陶瓷外層釉彩和搪瓷釉的助熔劑、非鐵金屬的熔劑。在金屬焊接中用于焊接液.用于制造光學(xué)透鏡。還用作有機合成的催化劑及人造冰晶石的原料等。

二、干法生產(chǎn)工藝(干法氟化鋁)： 1、粗酸干法：硫酸和螢石高溫反應(yīng)后產(chǎn)生的氣體，經(jīng)過粗洗后進入流化床，與干燥后的氫氧化鋁反應(yīng)，在高溫下生成氟化鋁。由于粗洗后的氟化氫含量約96％，二氧化硅光學(xué)鍍膜材料廠家雜質(zhì)較高，氟化鋁產(chǎn)品的雜質(zhì)也就比較高；特別是沒有脫硅，使得氟化鋁產(chǎn)品的二氧化硅含量達到0.25%。這些雜質(zhì)會影響電解鋁的質(zhì)量，增加電解時的電耗。 F≥61％ Al≥30％ Na≤0.5％ H2O≤0.5％ SiO2≤0.28％ P2O5≤0.04％ Fe2O3≤0.1％ SO42-≤0.5％ 2、精酸干法：硫酸和螢石高溫反應(yīng)后產(chǎn)生的氣體，經(jīng)過粗洗、冷凍、脫氣、精餾后進入蒸發(fā)器，此時氟化氫的含量一般為99.5%；蒸發(fā)出的氟化氫氣體（含量接近100％）進入流化床，與濕氫氧化鋁反應(yīng)，在高溫下生成氟化鋁。由于氟化氫純度高，這樣生產(chǎn)的氟化鋁質(zhì)量很好，雜質(zhì)很低，特別是二氧化硅含量只有0.02%，五氧化二磷含量只有0.007%，對電解鋁的生產(chǎn)非常有利。F≥62％ Al≥32％ Na≤0.5％ H2O≤0.5％ SiO2≤0.03％ P2O5≤0.01％ Fe2O3≤0.03％ SO42-≤0.03％。